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초미세 레이저 가공 기술 개발 및 응용 연구

보고서 정보
주관연구기관 광주과학기술원
Gwangju Institute of Science and Technology
보고서유형2단계보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2012-01
과제시작연도 2012
주관부처 미래창조과학부
Ministry of Science, ICT and Future Planning
등록번호 TRKO201300021794
과제고유번호 1345195887
사업명 광주과학기술원연구운영비지원(0.5)
DB 구축일자 2013-09-14
키워드 레이저.레이저 가공.레이저 패터닝.펨토초.레이저 폴리싱.회절광학소자.laster.laser material processing.laser patterning.femtosecond.laser polishing.differaction optical element.

초록

Ⅲ. 연구개발의 내용 및 범위
□ 초미세 레이저 나노 가공 및 광원 개발
ㅇ서브미크론급 패터닝 기술 개발
ㅇ고반복률 펨토초 레이저를 이용한 그래핀 패터닝 기술 개발
ㅇ프리히팅 기술을 이용한 레이저 유리 연마 기술 개발
ㅇCO2레이저 광섬유 연마 및 다방면 조사 광섬유 팁 응용기술 개발
□ 초미세 레이저 나노 가공 및 광원 개발
ㅇ레이저 국소 연마 기술을 응용한 광소자 효율 향상 연구
ㅇ펨토초 레이저 리소그라피 기술을 이용한 presnel zone plate 제작 및 특성

Abstract

We developed direct laser writing of lithography patterns with a feature width of submicron on thin photoresist film by a femtosecond laser. We applied this technique to laser induced etching for submicron feature size. A thin photoresist film with a pattern inscribed by a femtosecond laser is used

목차 Contents

  • 제 출 문 ... 1
  • 보고서 초록 ... 2
  • 요 약 문 ... 3
  • SUMMARY ... 10
  • 목 차 ... 12
  • 제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 13
  • 1. 연구의 필요성 ... 13
  • 2. 연구의 내용 및 범위 ... 16
  • 제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 18
  • 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 25
  • 1. 초미세 레이저 나노 가공 및 광원 개발 ... 25
  • 2. 초미세 레이저 나노 가공 응용 연구 ... 37
  • 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 55
  • 제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ... 59

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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