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NTIS 바로가기주관연구기관 | 광주과학기술원 Gwangju Institute of Science and Technology |
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보고서유형 | 2단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-01 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
등록번호 | TRKO201300021794 |
과제고유번호 | 1345195887 |
사업명 | 광주과학기술원연구운영비지원(0.5) |
DB 구축일자 | 2013-09-14 |
키워드 | 레이저.레이저 가공.레이저 패터닝.펨토초.레이저 폴리싱.회절광학소자.laster.laser material processing.laser patterning.femtosecond.laser polishing.differaction optical element. |
Ⅲ. 연구개발의 내용 및 범위
□ 초미세 레이저 나노 가공 및 광원 개발
ㅇ서브미크론급 패터닝 기술 개발
ㅇ고반복률 펨토초 레이저를 이용한 그래핀 패터닝 기술 개발
ㅇ프리히팅 기술을 이용한 레이저 유리 연마 기술 개발
ㅇCO2레이저 광섬유 연마 및 다방면 조사 광섬유 팁 응용기술 개발
□ 초미세 레이저 나노 가공 및 광원 개발
ㅇ레이저 국소 연마 기술을 응용한 광소자 효율 향상 연구
ㅇ펨토초 레이저 리소그라피 기술을 이용한 presnel zone plate 제작 및 특성
We developed direct laser writing of lithography patterns with a feature width of submicron on thin photoresist film by a femtosecond laser. We applied this technique to laser induced etching for submicron feature size. A thin photoresist film with a pattern inscribed by a femtosecond laser is used
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