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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전기연구원 Korea Electrotechnology Research Institute |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-06 |
과제시작연도 | 2011 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
등록번호 | TRKO201300029763 |
과제고유번호 | 1415121534 |
사업명 | 한국전기연구원연구운영비지원 |
DB 구축일자 | 2013-10-05 |
키워드 | 그래핀.단결정금속막.화학기상증착법.니켈.구리.graphene.epitaxial metal.CVD.Ni.Cu. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201300029763 |
본 과제는 한국전기연구원에서 기본사업인 “친환경 나노기반 전기신소재 기술”의 일부로서 진행되었으며, 창의적 아이디어를 검증하기 위한 창의연구사업으로 선정되어 2011년 1월 1일부터 12월 31일까지 1년간 진행되었다. 본 과제의 시행동기 및 목적은 그래핀의 화학기상증착기술에 사용되는 니켈, 구리 등의 금속막을 단결정화하여 그 위에 성장되는 그래핀을 single-domain으로 만들거나 또는 구조적 결함을 최소화할 수 있을 것이라는 예상을 검증하기 위한 것이었다.
니켈, 구리를 단결정화하기 위해서는 적절한 내열성 단결정 기판이
From its discovery in 2004, graphene has attracted great attention due to its outstanding physical properties and unpredictable potential for practical applications. Nowadays, high-quality graphene films are fabricated routinely in numberless laboratories worldwide by chemical vapor deposition (CVD)
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