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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
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연구책임자 | 최두선 |
참여연구자 | 김기홍 , 김재구 , 김정환 , 이응숙 , 이재종 , 이지혜 , 임형준 , 장성환 , 전은채 , 정주연 , 정준호 , 제태진 , 조성학 , 최기봉 , 최대근 , 최두선 , 최준혁 , 황경현 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-01 |
과제시작연도 | 2013 |
주관부처 | 미래창조과학부 KA |
사업 관리 기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
등록번호 | TRKO201400003472 |
과제고유번호 | 1711009062 |
사업명 | 한국기계연구원연구운영비지원 |
DB 구축일자 | 2014-05-07 |
키워드 | 나노/마이크로 복합구조.나노임프린트.나노/마이크로 가공기술.나노 패턴.마이크로 패턴.nano/micro hybrid pattern.nanoimprint.nano/micro machining.nano pattern.micro pattern. |
ㅇ 나노임프린트 기반 250nm급 나노/마이크로 융복합 패터닝 기술 개발(면적: 4인치 이상)
- 대면적 나노 마스터 제작을 위한 간섭리소그라피 기반의 공정시스템 구축 및 얇은 유리 기반의 복제 몰더 공정 개발. 230nm 패턴크기의 복제 몰더 공정 완성.
- 선택적 노광을 통한 나노임프린트 기술 개발, 230 및 350 nm급 복제몰더를 이용한 공정 수행(기판 크기 : 4인치)
ㅇ 나노/마이크로 복합패턴 공구 설계 및 제작 (500 nm 이하, 50 um 이상)
- 피치 250 nm 및 폭 5 ㎛ 의 나노/마
IV. Results
○ Fabrication of nano/micro hybrid patterns of 250-nm scale on a 4-in wafer based on nanoimrint lithograpy
- Development of interference lithography system for fabrication of a nano-master of large-area and replication process using a thin glass substrate.
A replicated mold of 2
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