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비정질 산화물 기초 연구실
Amorphous Oxide Basic Research Laboratory 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 부산대학교
Busan National University
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2014-04
과제시작연도 2013
주관부처 미래창조과학부
Ministry of Science, ICT and Future Planning
등록번호 TRKO201400028770
과제고유번호 1711006278
사업명 기초연구실지원
DB 구축일자 2014-11-22
키워드 비정질산화물.반도체.도체.박막.저항메모리.전자구조.광학특성.미시구조.양자수송.Amorphous Oxide.Microscopic structure.Semiconductor.Conductor.Transparent electronics.Electronic structure.Thin film.Charge transport.Non-periodic lattice.
DOI https://doi.org/10.23000/TRKO201400028770

초록

연구결과
-PLD, RF sputtering, sol-gel 방법을 사용하여 박막제작후, x-선 회절을 통한 구조적 특성, 박막의 IV(전류-전압) 특성과 유전 특성 등 전기적 특성 연구를 수행하였으며, 나노 영역의 표면 특성을 연구하였다. a-In-Ga-Zn-O 온도에 따른 구조적 특성의 변화 및 전기적 특성의 변화를 연구하였다. FET구조를 lithography 방법을 사용하여 제작 IV 특성 등 전기적 특성의 변화를 연구하였으며, Zn-Sn-O 계의 반도체 산화물 박막을 제작하여 산화물 반도체로서의 응용 가능성을 타진하였

Abstract

Result
Various kinds of oxides such as a-In-Ga-Zn-O and ITO were fabricated by PLD, RF sputtering, sol-gel method. The properties of thin-film were analyzed by X-ray refraction, electrical and dielectric measurements, and the surface measurement. The TFT devices were fabricated by lithography met

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참고문헌 (25)

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