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연합인증

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반도체용 Photomask 소재개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 (주)케이씨씨
연구책임자 김동래
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2012-05
과제시작연도 2011
주관부처 지식경제부
Ministry of Knowledge Economy
등록번호 TRKO201700001116
과제고유번호 1415117115
사업명 부품소재산업경쟁력향상
DB 구축일자 2017-09-20
키워드 합성석영유리.블랭크마스크.포토마스크.리소그라피.반도체.

초록 ▼

1. 개발목표
가. Photomask용 합성석영유리 국산화 제조 기술 개발
1) 광투과율 : 90% @ 250 nm
2) 열팽창률 : 6.5x10-7/K
3) 내화학성 : 0.9 nm/min (NaOH 30 wt% @ 50℃)
4) 기판사이즈 : 152 x 152 mm
5) Pinhole/결함 : 0.3 ㎛ 이상 Free

나. Photomask용 바이너리 기판 기술 개발
1) 결함 : 0.1 ㎛ 이상 free
2) 흡수막 균일도 : 15Å 이하
3) 평

목차 Contents

  • 표지 ... 1제출문 ... 2부품소재기술개발사업 최종보고서 초록 ... 3목차 ... 5I. 총괄과제 ... 9 제1장 서론 ... 9 제1절 기술개발대상 ... 9 제2절 기술개발 목표 ... 25 제3절 기술개발 내용 ... 27 제2장 본론 ... 31 제1절 기술개발의 목표 및 내용 ... 31 제2절 수행주체별 담당내용 및 협력 ... 68 제3절 기술개발 추진일정 준수여부 ... 87 제3장 결론 ... 95II. 세부과제 ... 97 II-1. 제1세부과제 ... 97 제1장 서론 ... 97 제2장 본론 ... 119 제3장 결론 ... 231 II-2. 제2세부과제 ... 232 제1장 서론 ... 232 제2장 본론 ... 256 제3장 결론 ... 321 II-3. 제3세부과제 ... 322 제1장 서론 ... 322 제2장 본론 ... 326 제3장 결론 ... 405끝페이지 ... 407

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