초록 ▼

□ 핵심기술
고밀도 유도결합 플라즈마 핵심 기술 개발
대면적 유도결합 플라즈마 핵심 기술 개발

□ 최종목표
8세대 디스플레이용 고밀도 플라즈마 건식식각 제조장비 개발 상용화 및 10세대 고밀도 플라즈마 건식식각 설비 및 부품의 핵심기술 개발

□ 개발내용 및 결과
대면적 ICP유도결합 플라즈마 Source 제작 기술 및 제어기술개발결과 SiO2 : Etch Rate 3221Å/min / Uniformity 8.0% 확보 해외 선진 경쟁사와 동등수준의 공정결과 확보하였으며, 8세대 ICP

□ 핵심기술
고밀도 유도결합 플라즈마 핵심 기술 개발
대면적 유도결합 플라즈마 핵심 기술 개발

□ 최종목표
8세대 디스플레이용 고밀도 플라즈마 건식식각 제조장비 개발 상용화 및 10세대 고밀도 플라즈마 건식식각 설비 및 부품의 핵심기술 개발

□ 개발내용 및 결과
대면적 ICP유도결합 플라즈마 Source 제작 기술 및 제어기술개발결과 SiO2 : Etch Rate 3221Å/min / Uniformity 8.0% 확보 해외 선진 경쟁사와 동등수준의 공정결과 확보하였으며, 8세대 ICP Dry Etcher 를 수주하여 양산적용 하였다.

□ 기술개발 배경
플라즈마를 이용한 건식 식각 장치는 디스플레이 및 반도체 장치 산업에서 필요한 막을 원하는 형태로 식각하기 위한 필수 장치이며, 디스플레이용 Glass를 진공챔버의 하부 적극 위에 올려놓고 특정 압력에서 특정 가스를 흘려주고 가스 이온화에 필요한 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 원하는 막을 식각하는 장치를 통칭한다. 이러한 건식식각 장비중 ICP(Inductively Coupled Plasma) 건식식각 설비는 유도결합 플라즈마를 이용한 식각 설비로 이온에너지 및 이온밀도(플라즈마 밀도)를 조절이 가능하며 고밀도 플라즈마 형성이 가능하여 식각속도 증가와 균일도 향상할 수 있으나 대면적 기술력의 부재로 Source의 대면적화가 어려워, 국책과제를 통해 대면적 ICP 건식식각 설비의 개발을 수행 하였다.

□ 핵심개발 기술의 의의
1. 신규개발 여부
- 8세대 대면적 고밀도 플라즈마 식각장비 개발
핵심기술 국산화 성공 _ 양산수주 및 양산 中
- 다중 Zone Antenna Source 개발을 통한 균일도 제어성능 향상
- 전력분배/제어 기술개발을 통한 정밀 균일도 제어 기능개발
2. 이전모델 업그레이드 여부
- 기존 장비 하부 Chamber Module 최적화를 통한 ESC Chucking 능력향상 및 Glass Cooling 효과 개선을 통한 PR Burning 개선
3. 개발 난위도 (상,중,하)
- 고밀도 ICP Source 개발(상) /다중 Zone 전력 분배/제어기술(상)
대면적 핵심 부품 개발 (중)
4. 국산화 정도 _ 핵심 Parts 국산화 70% 수준
- 대면적 세라믹 / 대면적 ESC / ICP Source 기술 국산화
5. 해외기술 도입을 통한 개발 여부
- 대용량 Power Generator/Matcher 개발 (60Kw)
6. 기술수출 가능성
- 동일 기술적용 소형장비 중국 및 해외 장비 수주가능
- 8세대 중국 및 대만등 해외 디스플레이 업체 마케팅 활동 중

□ 적용 분야
모바일 및 디스플레이 TFT 식각 공정

( 출처: 최종보고서 초록 - 3. 개발결과 요약 4p )

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 기술개발사업 최종보고서 초록 ... 3
• 기술개발사업 주요 연구성과 ... 7
• 목차 ... 11
• 제1장 서론 ... 12
• 제1절 과제의 개요 ... 12
• 제2장 과제 수행의 내용 및 결과(기술개발 내용 및 방법) ... 18
• 제1절 최종 목표 및 평가 방법 ... 18
• 제2절 단계 목표 및 평가 방법 ... 22
• 제3절 연차별 개발 내용 및 개발 범위 ... 26
• 제4절 수행 결과의 보안등급 ... 46
• 제5절 유형적 발생품(연구시설, 연구장비 등) 구입 및 관리현황 ... 46
• 제3장 결과 ... 48
• 제1절 연구개발 최종 결과 ... 48
• 1. 연구개발 추진 일정 ... 48
• 2. 연구개발 추진 실적 (1~4차년도 기술개발 결과의 유형 및 무형 성과 전체를 기재) ... 53
• 제2절 연구개발 추진 체계 ... 82
• 제3절 고용 창출 효과 ... 83
• 제4절 자체보안관리진단표 ... 84
• 제4장 사업화 계획 ... 87
• 제1절 시장 현황 및 전망 ... 87
• 제2절 사업화 계획 ... 88
• 사업화 소요기간, 예상 매출 규모, 시장 점유율, 마케팅 계획 등을 기재 ... 88
• 제3절 향후 추가 기술 개발 계획 (개발기술 응용 등) ... 90
• 끝페이지 ... 90