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반도체 공정장비 Dielectric Window용 내플라즈마성 고품질 이트리아 후막코팅 개발

Development of High Plasma Resistance Yttria Thick Film for Dielectric Window of Semi-Conductor Processing Equipment

보고서상세정보
과제명 반도체 공정장비 Dielectric Window용 내플라즈마성 고품질 이트리아 후막코팅 개발(1/3)
주관연구기관 한국기계연구원
Korea Institute of Machinery and Materials
연구책임자 박동수
참여연구자 통가
보고서유형 1단계보고서
발행국가 대한민국
언어 한국어
발행년월 2019-12
과제시작년도 2019
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202000003009
과제고유번호 1711101716
사업명 재료연구소연구운영비지원(R&D)(주요사업비)
DB 구축일자 2020-05-02
키워드 상온진공과립분사.이트리아 코팅.고경도.고밀도.플라즈마 내식성.나노구조 코팅.GSV.Yttria coating.High hardness.High density.Plasma erosion resistance.Nano-structured coating.
DOI https://doi.org/10.23000/TRKO202000003009
초록
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이트리아 (Y2O3)는 화학적으로 매우 안정한 세라믹으로 특히 반도체 제조공정에서 사용되는 불소계 플라즈마에 의한 저항성이 우수함. 따라서, 현재 반도체 공정장비 부품에 코팅의 형태로 너리 적용...

Abstract
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Ⅳ. Results
- Deveopment of yttria coating with Hv25g 9.4 ± 0.2 GPa
- Development of yttria coath with 12.1 ± 1.6 ...

목차
Contents
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표 / 그림 (4)

참고문헌

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