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반도체 공정장비 Dielectric Window용 내플라즈마성 고품질 이트리아 후막코팅 개발

Development of High Plasma Resistance Yttria Thick Film for Dielectric Window of Semi-Conductor Processing Equipment

보고서 정보
주관연구기관 한국기계연구원
Korea Institute of Machinery and Materials
연구책임자 박동수
참여연구자 통가
보고서유형1단계보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2019-12
과제시작연도 2019
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202000003009
과제고유번호 1711101716
사업명 재료연구소연구운영비지원(R&D)(주요사업비)
DB 구축일자 2020-05-02
키워드 상온진공과립분사.이트리아 코팅.고경도.고밀도.플라즈마 내식성.나노구조 코팅.GSV.Yttria coating.High hardness.High density.Plasma erosion resistance.Nano-structured coating.
DOI https://doi.org/10.23000/TRKO202000003009

초록

이트리아 (Y2O3)는 화학적으로 매우 안정한 세라믹으로 특히 반도체 제조공정에서 사용되는 불소계 플라즈마에 의한 저항성이 우수함. 따라서, 현재 반도체 공정장비 부품에 코팅의 형태로 너리 적용되고 있음. 지금까지 플라즈마 용사 공정으로 코팅이 이루어져 왔으나, 반도체 나노공정 및 3D 반도체 생산 등에 따라 고강도 및 고밀도 불소계 플라즈마가 채용됨에 따라 플라즈마 용사코팅보다 우수한 성능을 가진 고밀도와 고경도의 나노구조 이트리아 코팅에 대한 수요가 급증함.
Dielectric win

Abstract

Ⅳ. Results
- Deveopment of yttria coating with Hv25g 9.4 ± 0.2 GPa
- Development of yttria coath with 12.1 ± 1.6 μm thickness
- Development of yttria coating with the low plasma erosion rate (0.4 of plasma sprayed yttria coating)
- Developement of yttria coating consising of g

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 제 출 문 ... 2
  • 보고서 초록 ... 3
  • 요 약 문 ... 4
  • S U M M A R Y ... 5
  • C O N T E N T S ... 6
  • 목차 ... 7
  • 제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 8
  • 제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 11
  • 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 13
  • 제 1 절 고품질 이트리아 코팅 개발 ... 13
  • 제 2 절 이트리아 코팅공정 고도화 ... 15
  • 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 16
  • 제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ... 17
  • 제 6 장 참고문헌 ... 18
  • 끝페이지 ... 19

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참고문헌 (25)

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