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반도체 공정 배가스(PFCs, SF6, NF3) 저감을 위한 촉매시스템 후처리 기술개발
Development of post-treatment technology of catalyst system for reduction of semiconductor process exhaust gas 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 명성CMI
연구책임자 김현호
참여연구자 윤금수 , 조숙희 , 최규홍 , 이원영
보고서유형연차보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2020-01
과제시작연도 2019
주관부처 환경부
Ministry of Environment
등록번호 TRKO202100000149
과제고유번호 1485016098
사업명 글로벌탑환경기술개발사업(R&D)
DB 구축일자 2021-05-08

초록

I. 연차실적
1. 연구개발 목표 및 결과
가. 최종목표
반도체 공정에서 발생하는 배가스(PFCs, SF6, NF3)저감을 위한 촉매시스템의 2차 부산물을 경제적이며 고효율로서 저감하기 위한 최적 후처리 기술개발 (최종 30CMM급) 및 최종 통합 SYSTEM 기술 확보

- HF/HCI:5ppm 이하 또는 98% 이상 처리
- 동일 용량 기존 기술 대비 물 사용량 저감 50%
- 통합 시스템 운영 Program 매뉴얼 확보
- 통합 시스템 연속운전성능평가 : 3개월 이상
- 통합 시

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • I. 연차실적 ... 3
  • 1. 최종/당해연도 연구목표 달성 결과 ... 3
  • 2. 최종/당해연도 성과목표 달성 결과 ... 4
  • 3. 당해연도 연구성과 ... 5
  • 4. 연구 개발비 집행 실적 ... 12
  • 5. 기관(기업) 정보 현황 ... 13
  • II. 차년도 연구개발 계획 ... 14
  • 1. 최종/연도별 연구목표 달성계획 ... 14
  • 2. 최종/당해연도 성과계획 ... 16
  • 3. 연구개발비 ... 20
  • 4. 주요 연구계획 변경사항 ... 30
  • 목차 ... 33
  • I. 연차실적 ... 34
  • 1. 연구개발 목표 및 결과 ... 34
  • 가. 최종목표 ... 34
  • 나. 당해연도 개발 목표 및 결과 ... 34
  • 2. 연구 평가의 착안점 및 기준 ... 79
  • 3. 연구수행에 따른 문제점 및 개선 방향 ... 79
  • 4. 기타 건의사항 ... 79
  • II. 차년도 연구개발 계획 ... 80
  • 1. 연구개발의 필요성 ... 80
  • 가. 연구개발의 개요 ... 80
  • 나. 연구개발 대상의 국내·외 현황 ... 83
  • 다. 기술개발의 차별성 ... 94
  • 2. 연구개발의 목표 및 내용 ... 99
  • 가. 연구개발의 목표 및 내용 ... 99
  • 나. 평가의 착안점 및 기준 ... 108
  • 3. 연구개발의 추진전략·방법 및 추진체계 ... 109
  • 가. 연구개발 추진전략·방법 ... 109
  • 나. 연구개발 추진체계 ... 110
  • 다. 추진 일정 ... 112
  • 4. 연구 개발 성과의 활용 방안 및 기대효과 ... 114
  • 가. 연구개발결과의 활용방안 ... 114
  • 나. 사업화계획 및 효과 ... 115
  • 5. 위탁연구 추진계획(국제공동(위탁)연구 포함) ... 121
  • 가. 위탁연구과제 개요 ... 121
  • 나. 위탁연구 필요성 ... 121
  • 다. 위탁연구 목표 및 내용 ... 121
  • 6 . 연구개발과제의 보안등급의 분류 및 결정사유 ... 122
  • 7. 연구에 활용 예정인 장비 현황 ... 123
  • 끝페이지 ... 125

표/그림 (55)

참고문헌 (25)

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