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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
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연구책임자 | 박동수 |
참여연구자 | 통가 |
보고서유형 | 2단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2020-12 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100000194 |
과제고유번호 | 1711120205 |
사업명 | 재료연구소연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2021-05-15 |
키워드 | 상온진공과립분사.이트리아 코팅.고경도.고밀도.플라즈마 내식성.나노구조 코팅.GSV.Yttria coating.High hardness.High density.Plasma erosion resistance.Nano-structured coating. |
상온진공과립분사공정을 사용하여 반도체 공정장비인 Dry Etcher의 Dielectric Window 표면에 평균두께 12 μm의 고품질 이트리아 코팅을 개발하였음. 개발된 이트리아 코팅은 1차년도에 개발된 소형 샘플 코팅과 같은 수준의 경도 (9.2±0.3 GPa)를 나타내었음. 직경 558mm의 Dielectric Window 실제품을 사용하여 연구개발을 수행하였으면 총 4개의 Dielectric Window을 코팅하였고 특히, 1개의 Dielectric Window는 표면에 다수의 소형 coupon들을 부착하여 Dielectr
Ⅳ. Results
- Deveopment of yttria coating with Hv25g 9.2 ± 0.3 GPa
- Development of yttria coath with 11.9 ± 1.1 μm thickness
- Analysis of yttria film thickness according to locations on the dielectric window
- Developement of 45 μm thick yttria film on 50mm X 50mm area alumi
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