초록 ▼

연구개발목표
- 원천기술 확보와 나노공정 구축을 통한 나노소재 구조제어 응용 상용화 기술개발
- 나노소재제어공정 나노전극 및 센서 응용기술개발 (특허확보 및 기술이전)
- 나노기공 구조제어를 통한 나노 force 정밀측정 센서 제작기술 개발 (특허확보를 통한 창업 또는 공정수익 창출)
- 신호 측정 및 처리용 전자 계측기 제작기술 개발
- 나노종합기술원에 공정 구축을 통한 참여기업 지원 서비스 플랫폼 구축 및 활용
- 응용기술 기업 창업 및 기술 수요기업 컨소시움 구성에 의한 기술 상용화 확대

연구개발목표
- 원천기술 확보와 나노공정 구축을 통한 나노소재 구조제어 응용 상용화 기술개발
- 나노소재제어공정 나노전극 및 센서 응용기술개발 (특허확보 및 기술이전)
- 나노기공 구조제어를 통한 나노 force 정밀측정 센서 제작기술 개발 (특허확보를 통한 창업 또는 공정수익 창출)
- 신호 측정 및 처리용 전자 계측기 제작기술 개발
- 나노종합기술원에 공정 구축을 통한 참여기업 지원 서비스 플랫폼 구축 및 활용
- 응용기술 기업 창업 및 기술 수요기업 컨소시움 구성에 의한 기술 상용화 확대

연구개발내용
나노구조제어 공정기술 및 Nanopore Chip 센서 상용화
나노종합기술원에 나노소재구조제어 공정 플랫폼 기술을 구축함으로써, 대면적 및 저비용의 고해상도 나노 패턴 구조를 제작하고, 다양한 기업과 협력, 기술이전, 기술 제공에 활용하고자 함.
- 대면적 나노전극 시작품 제작: 8인치 이상
- 나노기공 크기 구조정밀제어: 10nm급 (10-100nm)
- 고해상도 10~100nm 크기 범위에서 다양한 패턴, 다양한 소재(Au, Ag 등)로 적용
- 나노기공 크기 정밀제어 : 250nm 와 100nm 급 구조제어에 적용
- 나노전극 저항제어: 투명전극, 나노센서 등의 응용분야로 넓히기 위해서는 나노전극의 저항을 원하는 범위 안에서 조절이 가능해야함. 여러 가지 물질을 사용하거나, 구조를 조절함으로써 전극의 저항제어 및 나노전극 응용기술에 적용
- 나노기공 크기 정밀제어 : 250nm 급, 100nm 급, 10nm 급 제품
- 소형화와 측정기기 플랫폼 구현 : 30cm * 30cm * 10cm 이하 크기
- Soft-material(단일분자, 단일세포 등)의 초고감도 센서인 Nanopore Chip 시작품 제작을 위하여 8인치 기반의 나노구조제어공정에 의한 Solid state Nanopore 공정 확립과 제품 가격경쟁력 확보 TRL 기술적용단계 6단계 이상 기술로 시작품 제작, 창업 또는 상용화 기술을 통한 공정수익 창출을 목표로 함

연구개발성과
- 나노구조 제어공정 플랫폼 (나노섬유 무전해 나노도금) 특허 등록, 기술이전 완료. 기술이전료 1650만원
- 나노구조제어 플랫폼기반 투명전극(10Ω/□ @ T90%), 면상발열체 시작품 제작 완료, 관련기술 특허 출원
- ALD에 의한 30nm 이하 나노기공 크기 정밀제어 기술 확보를 통한 나노기공 균일도 개선
- 나노구조제어 및 나노기공 플랫폼 공정서비스 수익 약 4200만원, 나노기공 웨이퍼레벨 대량생산 특허출원
- 소형 패치클램프 시작품 퍼텐쇼스탯 업그레이드버전 (제품명: 인탄칩) 제작 및, DNA분석 완료
- 나노기공 대량생산시스템(CDB)구축 및 시스템을 통한 DNA분석 완료, 특허출원 2건
- 논문 11건, 특허등록 4건, 출원 15건, 인력양성 11명 등 모든 정량적 목표를 100% 이상 달성함.

활용계획 및 기대효과
- 우수한 원천기술인 나노소재제어 기술의 공정확립 및 적용분야 확대를 통하여 상용화 기술을 개발한다.
- 학-연 협력으로 확보된 원천기술을 국가인프라에 공정기술롤 구축하며, 참여기업을 통한 기술 상용화를 추진한다.
- 세계적인 기술수준의 참여기업과의 협력을 통하여 개발되는 나노공정 및 나노분석 기술을 세계시장에 적용 한다.
- 참여기업 컨소시움을 통하여 상용화 적용 확대를 준비한다.
- 신개념 나노인프라 공정서비스 구축
- 개발기술 시작품 제작 및 창업 또는 공정 수익 창출

(출처 : 요약서 4p)

Abstract ▼

Purpose
Development of commercialization technology by a nano-structural control application process
- Development of nano-electrode control technology and sensor application technology (patent acquisition and technology transfer)
- Development of nano-force precise measurement sensor techn

Purpose
Development of commercialization technology by a nano-structural control application process
- Development of nano-electrode control technology and sensor application technology (patent acquisition and technology transfer)
- Development of nano-force precise measurement sensor technology by controlling nanopore structure (patent acquisition and establishment)
- Development of electronic measurement technology for signal measurement and processing
- Establishment and utilization of service platform to support participating companies through process building in NNFC.
- Expansion of commercialization of technology by establishing application technology enterprise and technology demand consortium.

Contents
Nanostructure control process technology and nanopore chip sensor commercialization
By constructing nanotechnology structural control process platform technology in NNFC, we will produce high resolution nanopatterned structure with large area and low cost, and utilize it for cooperation, technology transfer and technology provision with various companies.
- Large area nanoelectrode prototype production: 8 inch or more
- Precision control of nanopore structure: 10nm (10 ~ 100nm)
- Applied with various patterns and materials in the range of high resolution, 10 ~ 100nm.
- Precise control of nano pore size: Applied to structural control of 250nm and 100nm class
- Nano electrode resistance control: In order to expand to application areas such as transparent electrodes and nanosensors, it is necessary to adjust the resistance of the nano electrode within a desired range. Applied to resistance control of electrodes and application of nanodevices by using various materials or controlling structure
- Nano pore size precision control: 250nm class, 100nm class, 10nm class product
- Miniaturization and measurement device platform implementation:30cm*30cm*10cm or less size
- Establishment of solid-state nanopore process by 8-inch-based nanostructure control process and competitive price of product for production of nanopore chip prototype of ultra-sensitive sensor of soft-material (single molecule, single cell, etc.)
The goal of developed technology is to manufacture, start up and commercialize prototype with more than TRL-6 level technology.

Development results
- Patent registration of nano-structure control process platform (electroless nano plating of nano-fiber) and technology transfer completed. Technology transfer fee of 16.5 million won.
- Transparent electrode based on nanostructure control platform (10Ω/□ @ T90%), complete prototype manufacturing of the heating film, patent application for related technology
- Improving uniformity of nanopores by securing precision control technology by smaller than 30nm by ALD
- Approximately 42 million won of process service fee from nano-structure control and nano-engineering platform, and patent for mass production of nanopores in wafer level
- Prototype patchclamp upgrade version (product name: Intan-chip) is manufactured and DNA analysis is completed.
- Completed DNA analysis through the system of the nanopore chip mass production system (CDB), and 2 patents
- Achieve all quantitative goals of 100 percent or more, including 11 papers, 4 patent registrations, 15 patent applications and 11 personnel training.

Expected Contribution
- Develop commercialization technology by establishing process of nanomaterial controled technology which is excellent source technology and expanding various application fields.
- Establishment of process technology rolls in the national infrastructure, and promote technology commercialization through participating companies.
- Appling nano-process and nano-analysis technology developed in cooperation with participating companies of global technology level to the world market.
- Expansion of commercialization application through participating company consortium.
- Construction of new concept nano-infrastructure process service at NNFC.
- Development technology prototype production and start-up.

(출처 : SUMMARY 5p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 목차 ... 2
• 최종보고서 ... 3
• 수행결과 요약서 ... 4
• SUMMARY ... 5
• 연 구 분 야 ... 6
• 1. 연구개발과제의 개요 ... 7
• 2. 연구개발 목표 및 평가의 착안점 ... 10
• 2-1. 연구개발 목표 (최종목표) ... 10
• 2-2. 연차별 연구개발 목표 ... 10
• 2-3. 평가의 착안점 ... 10
• 3. 연구범위 및 연구수행 방법 ... 11
• 4. 연구수행 내용 및 결과 ... 12
• 4-1. 주관연구개발과제 ... 12
• 4-2. 대표 연구성과 ... 19
• 5. 연구개발목표의 달성도 및 자체평가 ... 19
• 6. 연구성과 ... 21
• 6-1. 연구성과 총괄표 ... 21
• 6-2. 세부 성과별 내용 ... 21
• 7. 연구성과 활용계획 ... 29
• 8. 연구비 집행실적 ... 30
• 8-1. 총연구비 구성(총괄) ... 30
• 8-2. 정부출연금 연차별 연구비 집행실적 ... 30
• 8-3. 참여기업 부담금 연차별 연구비 집행실적 ... 31
• 9. 연구수행에 따른 문제점 및 개선방향 ... 32
• 10. 중요 연구변경 사항 ... 32
• 11. 기타 건의사항 ... 32
• 끝페이지 ... 32