초록 ▼

□ 연구개발 목표 및 내용
○ 최종 목표
비접촉 스팀세정장치 테스트 벤치개발 및 장비 판매 후 기존장비 크리닝 공정에 개조하여 적용할 수 있게 국내 및 해외 반도체장비업체와 협업을 통하여 비접촉 스팀 세정방식을 장비에 연동시켜 크리닝 시스템 공정을 개선하고자 한다.

○ 전체 내용
현재의 접촉식 세정방법은 반도체 쇼터 칩 가장자리에 이물질이 남는등 품질이슈와 함께 셋업에 시간이 많이 소요되는 문제점이 있다.비접촉 스팀 세정방법을 사용하여 이물질을 완벽하게 제거하고 스팀노즐과 반도체 쇼터 칩 툴의 초기 분사

□ 연구개발 목표 및 내용
○ 최종 목표
비접촉 스팀세정장치 테스트 벤치개발 및 장비 판매 후 기존장비 크리닝 공정에 개조하여 적용할 수 있게 국내 및 해외 반도체장비업체와 협업을 통하여 비접촉 스팀 세정방식을 장비에 연동시켜 크리닝 시스템 공정을 개선하고자 한다.

○ 전체 내용
현재의 접촉식 세정방법은 반도체 쇼터 칩 가장자리에 이물질이 남는등 품질이슈와 함께 셋업에 시간이 많이 소요되는 문제점이 있다.비접촉 스팀 세정방법을 사용하여 이물질을 완벽하게 제거하고 스팀노즐과 반도체 쇼터 칩 툴의 초기 분사거리를 조정하여 모든 제품 셋업 시 별도의 셋업 없이 작업이 가능하게 한다 스팀세정 장치 개발에 있어 스팀세정장치의 형태 워터를 공급하고 수위조절이 필요한 전자부품과 스팀을 압축 생성할 수 있는 제너레이터와 노즐에서 압력을 조절할 수 있는 압력 센서등으로 구성
현재 상용되는 스팀 제너레이터 구조는 일반 시수를 입력하여 스팀을 만들고 Gun 형태의 분사기에서 스팀을 분사하는 구조
* 개발이 필요한 스팀 제너레이터의 구조
1) 반도체용 DI 워터의 수위/압력 조절/감지 가능한 구조 2) 스팀 분사압력 조절/감지 연동 가능한 구조
3) 스팀 온도를 고려한 배관의 안정성 확보되는 구조 4) 소형화된 스팀 발생기의 안정성이 확보된 구조
* 스팀세정 장치 개발에 필요한 기술
1) 반도체 칩의 크리닝 효과를 극대화하는 노즐 설계
2) 반도체 장비용의 소형화된 스팀 제너레이터 개발기술
* 스팀 세정장치의 개발 절차
1) 테스트 벤치형의 시스템 구성 반도체 칩표면의 크리닝 성능 실험
2) 장비내부 스팀 세정 시스템 구현을 위한 크리닝 노즐,배관, 셕션 유니트, 제너레이터 장착
3) 해당 장비업체와 협업을 통해 시스템간 연동확인
* 비접촉 스팀 세정 장치의 삼성온양 사업장에 Packaging Saw 장비에 적용

□ 연구개발성과
1) 특허 출원 진행 중 (특허출원번호 10-2021-0102538)
2) 삼성전자 온양사업부 Test Bench 1대 납품완료 – 각 종류별 자재 Sample Test 진행 : 삼성전자 온양사업 부 라인내
3) 삼성전자 내 Packaing Saw 장비에 적용하기 위해 협의 중
3-1) 1차 장비업체인 세메스와 소형화 스팀기기 및 노즐종류, 배관, 유닛등 크리닝 System과 장비호환성 여부 협의진행
3-2) 2차 견적 및 적용 관련하여 세메스 / 삼성전자 / 자사 가 미팅진행 협의 중

□ 연구개발성과 활용계획 및 기대 효과
1) 기존 패키지 반도체 공정 중 패키지 쇼터 장비의 크리닝 시스템에 적용이 되면 반도체 칩 제조과정에서의 품질 향상과 현재 세 세정 시스템의 한계성으로 추가적인 세정 장비의 개발에 필요한 투자비용에 애한 절감을 이룰 수 있어 반도체 제조과정에서 한국내의 경쟁력을 증가 할 수 있다.
2) 스팀을 이용한 세정장치를 반도체 후공정의 핵심인 웨이퍼 백그라인딩 공정에 적용하여 이물질로 인한 공정 효율과 품질 이슈를 개선할 수 있다.

(출처 : 요약문 2p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 요 약 문 ... 2
• 목차 ... 3
• 1. 연구개발과제의 개요 ... 4
• 1-1) 개발기술 세부내용 ... 4
• 2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 ... 5
• 1) 스팀 크리닝 시스템 개발의 방향 ... 5
• 2) 스팀세정 장치의 형태 ... 5
• 3) 현재 상용되는 스팀 제너레이터의 구조설명 ... 6
• 4) 개발이 필요한 스팀 제너레이터 구조 ... 6
• 5) 스팀 세정장치의 개발에 필요한 기술 ... 6
• 6) 스팀 세정장치의 개발절차 및 방법설명 ... 6
• 7) 스팀발생기기 소형화 및 노즐 블록 개발 ... 7
• 3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 정도 ... 7
• 1) 연구수행 결과 ... 7
• 2) 목표 달성 수준 ... 12
• 4. 목표 미달 시 원인분석 ... 12
• 1) 목표 미달 원인(사유) 자체분석 내용 ... 12
• 2) 자체 보완활동 ... 12
• 3) 연구개발 과정의 성실성 ... 13
• 5. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도 ... 14
• 6. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 ... 14
• 6-1) 추진현황 ... 14
• 6-2) 추진전략 및 방향 ... 14
• 6-3) 성과 활용 계획 ... 14
• 끝페이지 ... 16