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NTIS 바로가기優秀한 positive 型 感光性樹脂(photoresist)인 PMHA의 感光度 (photosensitivity)를 增進시킬 目的으로 polymer의 側鎖에 oxime 基와 t-buty] benzoyl 基를 結合시켜 光分解 (photodegradation) 效率을 PMMA와 比較, 觀察하였다. 光分解 效率은 溶液狀態와 固體狀態에서의 照射時間에 따른 UV 스펙트럼의 變化와 粘度變化, 스펙트럼의 變化와 粘度變化, IR 스펙트럼의 變化를 觀察하였다. 光分解 開始基인 oxime 基만을 MMA와 結合 시켰을때 PHHA와 比較하여 照射時間에 따른 粘度가 급격히 減少하였으며 MMA와 oxime 基 그리고 光增感 基인 t-butyl benzoyl 基 를 結合하였을때, P(MMA-co-BOXM) 보다 照射時間에 따라 UV 吸光度와 粘度가 減少하였다. 또한 照射時間에 따른 IR 스펙트럼의 觀察 結果 650 cm^-1 에서 吸收띠의 變化를 觀察할 수 있었다. PMMA에 oxime 基와 光增感、基를 導入함으로써 感光度가 보다 效果的으로 增進됨을 觀察할수 있었다.
Poly(methyl methacrylate) is used as a positive type of photoresist, but insensitive to the Deep UV because of weak absorption. The properties of PMMA can be modified by the incorporation of photolabile groups to have both the desired sensitivity and base polymer properties. This can be done by the ...
저자 | 황인동 |
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학위수여기관 | 全南大學校 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 化學工學科 |
발행연도 | 1989 |
총페이지 | 42장 |
키워드 | DEEP UV PHOTORESIST 개질 디프 유브 포토리지스트 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T722280&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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