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스테인리스 강은 모재위에 형성된 부동태 피막 때문에 좋은 내식성을 갖는 재료이다. 그러나 염소이온이 포함된 부식 환경에 노출되었을 경우, 부동태 피막에서의 국부적 용해로 인하여 내식성이 현저히 감소하는 것을 알 수 있다. 최근 염소이온의 존재는 부동태 피막의 전자적 특성에 영향을 주어, 부식저항성을 감소시키는 역할을 한다고 알려졌다. 그러므로 본 연구에서는 캐퍼시턴스 측정법을 통하여 부동태 피막의 전기화학적 거동에 대한 염소이온의 영향을 조사하였다. 염소이온의 영향을 조사하기 위하여 pH 8.5 ...

스테인리스 강은 모재위에 형성된 부동태 피막 때문에 좋은 내식성을 갖는 재료이다. 그러나 염소이온이 포함된 부식 환경에 노출되었을 경우, 부동태 피막에서의 국부적 용해로 인하여 내식성이 현저히 감소하는 것을 알 수 있다. 최근 염소이온의 존재는 부동태 피막의 전자적 특성에 영향을 주어, 부식저항성을 감소시키는 역할을 한다고 알려졌다. 그러므로 본 연구에서는 캐퍼시턴스 측정법을 통하여 부동태 피막의 전기화학적 거동에 대한 염소이온의 영향을 조사하였다. 염소이온의 영향을 조사하기 위하여 pH 8.5 완충용액에 0.1~4N 의 염소이온을 첨가하며 시험을 실시하였다. 캐퍼시턴스 측정 결과, 다양한 농도의 염소이온에 따른 도너 농도를 계산하기 위해 Mott-Schottky 곡선을 사용하였다. 또한 염소이온이 포함된 부식 환경에서 마멸전극기법을 이용하여 부동태 피막을 제거한 후에 시간에 따른 전류밀도를 측정함으로서 부동태 피막의 재부동태 특성에 관한 연구를 수행하였다. 실험 결과 염소이온은 피막 내 도너농도를 높이고 피막내 공간전하층의 두께를 감소시키는 역할을 하였다. 응력부식균열 감수성에 대한 염소이온의 영향은 저속 인장 변형률 측정기법을 이용하여 조사하였다. 염소이온의 변화에 대한 관점에서 부동태 피막의 전자적 특성 및 재부동태 특성 그리고 국부부식저항성에 대한 상관관계를 알아보았다.

Abstract ▼ AI-Helper

Even though stainless steels have the good resistance to corrosion in the corrosive environments containing chloride ions, their resistance to corrosion could be significantly reduced because of the local dissolution of passive films. Recently it has been known that chloride ions may have an influen...

Even though stainless steels have the good resistance to corrosion in the corrosive environments containing chloride ions, their resistance to corrosion could be significantly reduced because of the local dissolution of passive films. Recently it has been known that chloride ions may have an influence on electronic properties of passive films, causing the decrease in the resistance to corrosion. The influence of chloride ions onthe electronic behaviors of passive films was investigated by measuring the capacitance of type 316 austenitic stainless steels in deaerated pH 8.5 borate buffer solution with various chloride ion concentrations (0.1~4N NaCl). Based on the capacitance measurement results, donor densities of passive films exposed to different chloride ion concentrations were calculated through Mott-Schottky plots. Repassivation kinetics of passive films was examined by using the abrading electrode technique associated with measuring current densities with time. Effects of chloride ions on stress-corrosion cracking susceptibility were examined by using the slow strain-rate tensile test.

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