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NTIS 바로가기본 논문에서 1.55um의 중심파장을 목표로 표면회절격자를 이용한 레이저 다이오드 를 제작하였다. 표면 회절격자는 $CH_4$와 $H_2$ 기체를 이용하여 RIE장비로 만든다. 이 공정은 RF 전력량, 압력, 공정시간 등에 의해 결정되고 본 실험에서 이 파라미터를 최적화하...
In this thesis, LASER Diode with Surface-Grating-Etching Structure has been fabricated for the wavelength of 1.55um. Surface grating is made by dry etching with $CH_4$ and $H_2$. This Process is controlled by gas mixing ratio, RF power, pressure, process time etc and these parameters are optimized. ...
저자 | Kim, Seong-Il |
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학위수여기관 | 한국과학기술원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전기및전자공학전공 |
지도교수 | 권영세,Kwon, Young-Se |
발행연도 | 2000 |
총페이지 | v, 42 p. |
키워드 | Surface grating RIE etching condition DFB LD 표면 회절격자 RIE 식각조건 DFB 레이저 다이오드 |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T10517900&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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