CFC-11 (CFCl₃), CFC-113 (CClF₂CCl₂F), 1,1,1-trichloroethane (CH₃CCl₃) 그리고 methylenechloride (CH₂Cl₂)과 같이 염소원자를 포함하는 세정제는 용매로서 효율이 좋고 열적, 화학적으로 안정하며 다른 물질들에 비해 상대적으로 위험성이 낮아 화학분야와 기계분야 그리고 반도체 산업에 폭넓게 이용되고 있다. 그러나 세정제에 포함된 염소원자는 공기 중에 존재하면서 물을 오염시킬 뿐만 아니라 성층권의 오존층을 파괴시키는데 주원인이 되는 것으로 알려져 있다.[1-4] 몬트리올 의정서는 국제적으로 오존층을 파괴하는 물질의 점차적인 감소를 요구하는 실정이고 HCFC-141b (CH₃CCl₂F), HCFC-225ca/cb (C3HCl₂F_(5)) 그리고 HFC-4310 (C_(5)H₂F_(10))과 같이 염소원자가 적거나 거의 없는 새로운 대체물질을 제안하고 있다. 국내에서도 CFC계 물질의 생산규제단계에 접어들면서 제 2세대 물질 HCFCs (HCFCs: hydrochlorofluorocarbons)가 CFCs의 대체물질로 잘 활용되고 있지만 이것 역시 염소원자를 가지고 있기 때문에 ODP는 0은 아니다. 그리고 2030년 까지 HCFCs를 완전히 감축하기로 국제적인 조인이 되어 있는 실정이다. 그러므로 HCFC도 HFCs로 교체되어야 할 전망이다. 하지만 HFCs도 일반적으로 대기권에서 머무르는 시간이 많고 ...
CFC-11 (CFCl₃), CFC-113 (CClF₂CCl₂F), 1,1,1-trichloroethane (CH₃CCl₃) 그리고 methylenechloride (CH₂Cl₂)과 같이 염소원자를 포함하는 세정제는 용매로서 효율이 좋고 열적, 화학적으로 안정하며 다른 물질들에 비해 상대적으로 위험성이 낮아 화학분야와 기계분야 그리고 반도체 산업에 폭넓게 이용되고 있다. 그러나 세정제에 포함된 염소원자는 공기 중에 존재하면서 물을 오염시킬 뿐만 아니라 성층권의 오존층을 파괴시키는데 주원인이 되는 것으로 알려져 있다.[1-4] 몬트리올 의정서는 국제적으로 오존층을 파괴하는 물질의 점차적인 감소를 요구하는 실정이고 HCFC-141b (CH₃CCl₂F), HCFC-225ca/cb (C3HCl₂F_(5)) 그리고 HFC-4310 (C_(5)H₂F_(10))과 같이 염소원자가 적거나 거의 없는 새로운 대체물질을 제안하고 있다. 국내에서도 CFC계 물질의 생산규제단계에 접어들면서 제 2세대 물질 HCFCs (HCFCs: hydrochlorofluorocarbons)가 CFCs의 대체물질로 잘 활용되고 있지만 이것 역시 염소원자를 가지고 있기 때문에 ODP는 0은 아니다. 그리고 2030년 까지 HCFCs를 완전히 감축하기로 국제적인 조인이 되어 있는 실정이다. 그러므로 HCFC도 HFCs로 교체되어야 할 전망이다. 하지만 HFCs도 일반적으로 대기권에서 머무르는 시간이 많고 온실기체로서 많은 영향을 끼치므로 이 역시 감축을 유도하고 있는 실정이다.[5-7] 따라서 본 연구는 ODP가 0이고 GWP가 낮은 Heteroatom(O, Si)을 함유하는 제 3세대 CFC 대체물질개발을 목적으로 (Trifluoromethyl)trimethylsilane과 (Trifluoroethyl)trimethylsilane을 알루미늄의 존재 하에서 coupling 시켜 합성하는 방법과 불소화 Alcohol과 Trimethylsilylchloride의 반응을 통한 Fluorinated- alkoxytrimethylsilane의 합성 방법을 모색하였다.
CFC-11 (CFCl₃), CFC-113 (CClF₂CCl₂F), 1,1,1-trichloroethane (CH₃CCl₃) 그리고 methylenechloride (CH₂Cl₂)과 같이 염소원자를 포함하는 세정제는 용매로서 효율이 좋고 열적, 화학적으로 안정하며 다른 물질들에 비해 상대적으로 위험성이 낮아 화학분야와 기계분야 그리고 반도체 산업에 폭넓게 이용되고 있다. 그러나 세정제에 포함된 염소원자는 공기 중에 존재하면서 물을 오염시킬 뿐만 아니라 성층권의 오존층을 파괴시키는데 주원인이 되는 것으로 알려져 있다.[1-4] 몬트리올 의정서는 국제적으로 오존층을 파괴하는 물질의 점차적인 감소를 요구하는 실정이고 HCFC-141b (CH₃CCl₂F), HCFC-225ca/cb (C3HCl₂F_(5)) 그리고 HFC-4310 (C_(5)H₂F_(10))과 같이 염소원자가 적거나 거의 없는 새로운 대체물질을 제안하고 있다. 국내에서도 CFC계 물질의 생산규제단계에 접어들면서 제 2세대 물질 HCFCs (HCFCs: hydrochlorofluorocarbons)가 CFCs의 대체물질로 잘 활용되고 있지만 이것 역시 염소원자를 가지고 있기 때문에 ODP는 0은 아니다. 그리고 2030년 까지 HCFCs를 완전히 감축하기로 국제적인 조인이 되어 있는 실정이다. 그러므로 HCFC도 HFCs로 교체되어야 할 전망이다. 하지만 HFCs도 일반적으로 대기권에서 머무르는 시간이 많고 온실기체로서 많은 영향을 끼치므로 이 역시 감축을 유도하고 있는 실정이다.[5-7] 따라서 본 연구는 ODP가 0이고 GWP가 낮은 Heteroatom(O, Si)을 함유하는 제 3세대 CFC 대체물질개발을 목적으로 (Trifluoromethyl)trimethylsilane과 (Trifluoroethyl)trimethylsilane을 알루미늄의 존재 하에서 coupling 시켜 합성하는 방법과 불소화 Alcohol과 Trimethylsilylchloride의 반응을 통한 Fluorinated- alkoxytrimethylsilane의 합성 방법을 모색하였다.
Chlorine-containing cleaning agents such as CFC-11 (CFCl₃), CFC-113 (CClF₂CCl₂F), 1,1,1-trichloroethane (CH₃CCl₃), and methylene chloride (CH₂Cl₂) have been widely used in chemical, mechanical, and semiconductor industries because of their excellent solvent property, thermal and chemical stability, ...
Chlorine-containing cleaning agents such as CFC-11 (CFCl₃), CFC-113 (CClF₂CCl₂F), 1,1,1-trichloroethane (CH₃CCl₃), and methylene chloride (CH₂Cl₂) have been widely used in chemical, mechanical, and semiconductor industries because of their excellent solvent property, thermal and chemical stability, and relatively low harmlessness in contact. However, chlorine-containing molecules are recognized as the causes not only for contaminating water but for destroying the stratospheric ozone layer once they are released to the air. According to the Montreal Protocol on Substances that Deplete the Ozone Layer, these chemicals are internationally requested to be phased out, and new alternative chemicals, such as HCFC-141b (CH₃CCl₂F), HCFC-225ca/cb (C3HCl₂F_(5)), and HFC-4310 (C_(5)H₂F_(10)) which have less or no chlorine, have been proposed. However, because HCFCs still contain chlorine atom or atoms and HFCs generally have long atmospheric lifetimes and high global warming potentials, these are accepted only as interim alternatives, namely the second-generation CFCs. We now wish to report a new general and efficient method for the preparation of both (Trifluoromethyl)trimethylsilane and (Trifluoroethyl)- trimethylsilane using aluminium metal-mediated reductive trifluoromethylation of chlorotrimethylsilane. Fluorinated alkoxytrimethylsilanes (RfCH₂OSiMe₃) containing both oxygen and silicon atoms in the molecular back-bone are currently considered as plausible candidates for the third-generation cleaning agent, because they are zero ozone depleting, low global warming.
Chlorine-containing cleaning agents such as CFC-11 (CFCl₃), CFC-113 (CClF₂CCl₂F), 1,1,1-trichloroethane (CH₃CCl₃), and methylene chloride (CH₂Cl₂) have been widely used in chemical, mechanical, and semiconductor industries because of their excellent solvent property, thermal and chemical stability, and relatively low harmlessness in contact. However, chlorine-containing molecules are recognized as the causes not only for contaminating water but for destroying the stratospheric ozone layer once they are released to the air. According to the Montreal Protocol on Substances that Deplete the Ozone Layer, these chemicals are internationally requested to be phased out, and new alternative chemicals, such as HCFC-141b (CH₃CCl₂F), HCFC-225ca/cb (C3HCl₂F_(5)), and HFC-4310 (C_(5)H₂F_(10)) which have less or no chlorine, have been proposed. However, because HCFCs still contain chlorine atom or atoms and HFCs generally have long atmospheric lifetimes and high global warming potentials, these are accepted only as interim alternatives, namely the second-generation CFCs. We now wish to report a new general and efficient method for the preparation of both (Trifluoromethyl)trimethylsilane and (Trifluoroethyl)- trimethylsilane using aluminium metal-mediated reductive trifluoromethylation of chlorotrimethylsilane. Fluorinated alkoxytrimethylsilanes (RfCH₂OSiMe₃) containing both oxygen and silicon atoms in the molecular back-bone are currently considered as plausible candidates for the third-generation cleaning agent, because they are zero ozone depleting, low global warming.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.