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NTIS 바로가기플라즈마를 사용하는 반도체장비의 공정모니터 및, FDC를 위해 장비와 독립된 플라즈마를 가지는 SP OES (Self Plasma Optical Emission Spectroscopy) 를 사용하여 CVD(Chemical Vapor Depsition) 장비의 공정을 실시간 측정하였다. 이를 통하여 Deposition process, cleaning process 의 반응 메카니즘을 분석하고 이를 통해서 process 의 효율을 ...
For EPD and Process optimization, We measured residual gas of CVD system using SP OES. Deposition, cleaning process is optimised by analysis of plasma reaction mechanism. Also, In-situ EPD function is properly checked. These data and algorithm detects leak and abnormal condition of CVD system....
저자 | 차동호 |
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학위수여기관 | 한국산업기술대학교 산업기술·경영대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 나노광공학과 |
발행연도 | 2008 |
총페이지 | 1책 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T11335080&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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