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RF Sputtering 방식으로 형성된 Low-e 다층 박막 특성연구
Study on properties of Low-e Multilayer Films by RF sputtering method 원문보기


이승민 (청주대학교 대학원 전자공학과 국내석사)

초록
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본 연구에서는 Low-Emissivity 분야에 활용할 박막을 제작하여 특성 연구 및 최적화된 공정조건을 찾는 것에 주 목적을 두고 있다. Low-E 분야에 활용할 박막을 제작하기 위해선 Multilayer 방식의 OMO(Ox ide-Metal-Oxide)구조로 박막을 제작을 하여야 한다. 위의 구조로 박막을 제작할 경우 가시광 영역에서의 높은 투과율을 보여주며 적외선 영역에서는 매우 낮은 투과율을 보여주는 특성을 갖게된다. 적외선은 많은 열을 같이 동반하게 되는데 적외선 영역에서의 투과율이 낮아진다는 의미는 그만큼 열 차단이 잘된다는 것을 의미하며, Low-E 분야에 활용 가능함을 의미하는 말이기도 하다. ...

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Looking at the recent South and other distinctive architectural trends and steadily increasing consumer demand for the design, position of the glass exterior that can express it best can be described as unique. The reason is that the glass can be highlighted as a packaging material because the funda...

학위논문 정보

저자 이승민
학위수여기관 청주대학교 대학원
학위구분 국내석사
학과 전자공학과
지도교수 김홍배
발행연도 2015
총페이지 vi, 36 p.
언어 kor
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T13693539&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원
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