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NTIS 바로가기반도체 소자의 소형화 대용량화에 따른 선폭이 미세화 됨에 따라 기존의 패턴에 쓰였던 물질인 Photoresist(PR)등이 한계점을 보였다. 미세화에 따른 패턴 크기가 작아짐에 따라 물질로서 가장 많이 사용되어진 PR의 경우 패턴 해상력을 향상시키기 위해서 기존의 PR층에 패턴 높이도 감소되어야 하지만, 두께가 얆아짐에 따라 마스크 층으로 사용되기에는 한계를 보였다.[1] 이 때문에 PR의 코팅두께를 낮추면, ...
저자 | 정원준 |
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학위수여기관 | 대전대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 신소재공학과 |
지도교수 | 신재수 |
발행연도 | 2015 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14007205&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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