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NTIS 바로가기플라즈마를 이용한 반도체 제조에서 반도체 수율향상에 대한 연구는 지속적으로 진행 되어왔다. 반도체 수율 향상을 위해, 집적도 향상 등의 연구가 진행되고 있지만, 웨이퍼 면적 증가에 따른 수율 향상에 대한 연구도 강조되고 있다. 또한, 웨이퍼 막질과 화학적으로 반응하는 라디칼은 높은 유량과 압력에서 많이 생성되지만, 높은 압력의 공정가스에서 대면적 플라즈마 생성장치의 ...
저자 | 김현준 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내박사 |
학과 | 전기공학과 |
지도교수 | 정진욱 |
발행연도 | 2016 |
총페이지 | iv, 129 p. |
키워드 | 전기공학 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T14168869&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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