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NTIS 바로가기In this study, heat treatment process was proposed to improve the scratch resistance of anti-reflection (AR) film fabricated by thermal nanoimprint lithography process (T-NIL). The AR nano-structured films were fabricated under various process conditions using high-temperature and high-pressure (FP)...
저자 | 여나은 |
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학위수여기관 | 부산대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 인지메카트로닉스공학과 |
지도교수 | Jeong Myung Yung |
발행연도 | 2019 |
총페이지 | vi, 54 장 |
키워드 | 고분자필름 내스크래치성 저반사 |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T15367314&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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