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NTIS 바로가기플라즈마를 이용한 식각 공정에서 챔버 내 세라믹 부품으로부터 발생되는 입자 오염을 줄이는 것은 반도체 산업에서 매우 중요한 주제가 되고 있다. 부품에는 다결정인 이트리아(Y2O3)와 알루미나(Al2O3) 적용되고 있으나 기공과 결정립계로부터 국부적인 식각의 영향을 받아 오염입자 발생에 용이하다. 따라서, 낮은 식각 속도와 입자 발생이 적은 물질이 ...
저자 | 변영민 |
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학위수여기관 | 한양대학교 대학원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 신소재공학과 |
지도교수 | 임원빈 |
발행연도 | 2024 |
언어 | kor |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T16928877&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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