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NTIS 바로가기요업학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.24 no.2, 1987년, pp.170 - 178
이종무 (인하대학교 공과대학 금속공학과) , 이철진 (삼성반도체통신 주식회사)
Changes of the properties of PECVD-SiN film with the variation of deposition process parameters were investigated and optimum process parameters were determined. The refractive index of the film increased with increasing substrate temperature and pressure, and decreasing rf-power, NH3/SiH4 gas ratio...
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