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평판형 유도결합플라즈마를 이용한 RF 스퍼터 식각반응로 제작 및 특성에 관한 연구
A Study on the Fabrication and Properties of RF Sputter Etch Reactor using Planar Inductively Coupled Plams 원문보기

韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.4 no.2, 1995년, pp.210 - 216  

이원석 (성균관대학교 재료공학과) ,  이진호 (한국전자통신연구소) ,  염근영 (성균관대학교 재료공학과)

초록
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최근에 연구되고 있는 저온, 저압 플라즈마를 이용한 식각기술 중 차세대 반도체 metallization 공정에 응용될 수 있는 가장 적합한 기술이라 사료되는 유도 결합형 플라즈마(Inductively Coupled Plasma : ICP)를 이용한 RF 스퍼터 식각 반응로를 제작하고 이에 대한 특성을 조사하였다. 유도용 주파수로서 13.56 MHz를 사용하였으며 유도결합을 일으키기 위해 3.5회의 나선형 평판형 코일을 사용함으로써 비교적 대면적에 균일한 고밀도 플라즈마를 얻을 수 있었다. 또한 기판에 독립적인 13.56MHz RF power를 가해 DC 바이어스를 인가함으로써 기판으로 입사하는 하전입자들의 에너지를 조절하여 기판에의 손상을 최소화하며 SiO2의 스퍼터 식각 속도를 극대화할 수 있었다. 따라서 이러한 특성을 갖는 유도 결합형 플라즈마 식각장치를 차세대 반도체의 RF스퍼터 식각 공정에 응용할 수 있으리라 사료된다.

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