최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.11 no.10, 1998년, pp.826 - 832
김창석 (조선대 공대전기공학과) , 하충기 (한국전력공사 영광원자력본부) , 김병인 (송원대학 전기과)
In this study the thin films with the structure of Si+SiO
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.