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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.7 no.2, 1998년, pp.155 - 160
신기수 (현대전자산업주식회사 메모리연구소 공정개발2실) , 김재영 (현대전자산업주식회사 메모리연구소 공정개발2실)
It is necessary to use Arc layer and DUV resist to define 0.25
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