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NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.32 no.6, 1999년, pp.658 - 664
현준원 (단국대학교 응용물리학과) , 노승정 (단국대학교 응용물리학과) , 김경례 (단국대학교 응용물리학과) , 김창연 (단국대학교 응용물리학과) , 김현후 (두원공과대학 전자공학과)
Helicon sources are attractive for plasma processing because they provide high plasma density in low magnetic fields. Helicon waves were excited by a Nagoya type III antenna in a magnetized plasma column. Plasma parameters were measured with a double probe, and the structure and adsorption of the he...
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