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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.11 no.7, 2001년, pp.580 - 584
박상기 (국민대학교 금속재료공학부) , 강봉주 (국민대학교 금속재료공학부) , 양희정 (국민대학교 금속재료공학부) , 이원희 (국민대학교 금속재료공학부) , 이은구 (조선대학교 금속재료공학과) , 김희재 (군사과학대학 재료과학과) , 이재갑 (국민대학교 금속재료공학부)
We have investigated the deposition characteristics of Ti-Si-N films obtained by rf magnetron sputtering with ratios of Ti/Si targets in an
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N.Awaya and Y.Arita, J.Electron.Mater., 21, p959 (1992)
J. D. McBrayer, In 'Diffusion of metals in silicon dioxide,' DARPA, MDA 901-82-k-0412, (1983)
T. Iijima, Y. Shimooka, G. Minamihaba, T. Kawanoue, H. Tamura, VMIC Conference ISMIC, 106/96/0168(c), P (1996)
X. Sun, J. S. Reid, E. Kolawa and M-A. Nicolet, J. Appl. Phys., vol.81 No.2, (656), (1997)
E. Kolawa, J. M. Molarius, C. W. Nieh, and M-A. Nicolet, J. Vac. Sci. Technol., A 8(3), (3006), (1990)
A. Hirata, T. Hosoya, K. Machida, H. Takaoka, and H. Akiya, J. Electrochem. Soc., vol.143, No. 11, (3747), (1996)
W. Tsai, J. Fair, D. Hodul, J. Electrochem. Soc., vol.139, No.7, (1992)
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