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촉매 화학기상증착법을 이용한 탄소나노튜브의 합성 및 특성 연구
Study on the Preparation and Characteristics of Carbon Nanotubes Using Catalytic CVD 원문보기

마이크로전자 및 패키징 학회지 = Journal of the Microelectronics and Packaging Society, v.8 no.1 = no.19, 2001년, pp.13 - 18  

윤형석 (한국화학연구원 화학소재연구부) ,  류호진 (한국화학연구원 화학소재연구부) ,  조태환 (단국대학교 공업화학과) ,  장호정 (단국대학교 전자공학과) ,  김정식 (서울시립대학교 재료공학과) ,  이내성 (삼성종합기술원)

초록
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본 연구에서 RF 플라즈마를 이용한 촉매 화학기상증착법에 의하여 탄소나노튜브를 성장시켰다. 탄소나노튜브는 Ni이 증착된 강화 유리 기판위에 $600^{\circ}C$ 이하의 공정 온도에서 성장되었으며, 성장시 성장 온도와 에칭 시간 그리고 Ni 층의 두메에 따라 탄소나노튜브 성장 특성이 다양하게 나타났다. Ni이 증착된 강화 유리기판위에 탄소나노튜브를 성장시키기 위하여 에칭 가스로는 $H_2$와 $NH_3$가스를 사용하였고, 탄소 원료로 $C_2H_2$가스를 사용하였다. 수직 배향된 탄소나노튜브의 직경과 길이는 약 150 nm와 3 $\mu\textrm{m}$ 정도의 크기로 성장되었다. 촉매 화학기상증착법을 이용하여 성장된 탄소나노튜브는 FED의 에미터로 사용이 기대된다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Carbon nanotubes (CNTs) were grown on Ni-coated glass substrates by catalytic chemical vapor depositors (CVD) using RF plasma under $600^{\circ}C$. Various types of CNTs were obtained by different growth temperature, etching period and thickness of Ni catalyst. $NH_3$ or $...

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