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이온빔 보조 증착 Nb2O5 박막의 광학적 특성
Optical properties of Nb2O5 thin films prepared by ion beam assisted deposition 원문보기

한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, v.13 no.2, 2002년, pp.105 - 112  

우석훈 (인하대학교 이과대학 물리학과) ,  남성림 (인하대학교 이과대학 물리학과) ,  정부영 (인하대학교 이과대학 물리학과) ,  황보창권 (인하대학교 이과대학 물리학과) ,  문일춘 (삼성테크윈(주))

초록
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전자총을 사용하여 증착한 보통(conventional) Nb$_2$O$_{5}$ 박막Ar 이온빔 보조 증착(ion beam assisted deposition, IBAD)한 Nb$_2$O$_{5}$ 박막의 광학적, 물리적 특성을 조사하여 IBAD의 효과에 대해 연구하였다. IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막과 보통 Nb$_2$O$_{5}$ 박막의 진공-공기간 반사 스펙트럼과 박막 단면의 SEM 측정 결고, IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막은 보통 박막에 비해 조밀한 박막으로 증착되었으며, 분광 광도계를 이용하여 포락선 방법으로 구한 IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막의 평균 굴절률은 보통 Nb$_2$O$_{5}$ 박막 보다 증가하고, 소멸계수는 감소하였다. 이는 IBAD에 의한 이온빔 충격으로 Nb$_2$O$_{5}$ 박막의 미세구조가 변화하여 조밀도가 증가하였기 때문으로 판단된다. 주입 산소 양이 증가함에 따라 IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막과 보통 Nb$_2$O$_{5}$ 박막의 평균 굴절률과 소멸계수는 모두 감소하는 경향을 보였으며, IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막은 이온빔 전류 밀도가 증가함에 따라 평균 굴절률이 증가하였다. 보통 Nb$_2$O$_{5}$ 박막과 IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막은 모두 불균일 굴절률을 나타냈으며, IBAD Nb$_2$O$_{5}$ 박막은 이온빔 전류 밀도가 증가할수록 굴절률의 불균일도는 증가하였다. 증착된 Nb$_2$O$_{5}$ 박막은 XRD 측정 결과 모두 비정질이었으며, IBAD에 의해 박막의 결정 구조는 변하지 않았다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We studied the optical and structural properties of conventional and ion-beam-assisted-deposition (IBAD) Nb$_2$O$_{5}$ films which were evaporated by an electron beam gun. The vacuum-to-air spectral shift and the cross sectional SEM images of the Nb$_2$O$_{5}$<...

주제어

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문제 정의

  • !mu 이러한 Nb2O5 박막은 전자총 또는 스퍼터링 등의 방법으로 증착이 가능하다. 본 연구에서는 전자총을 이용하여 증착한 보통 Nb2O5 박믹과 IBAD Nb2O5 박막의 광학적, 물리적 특성을 비교하여 이온빔 보조 증착에 의한 효과를 조사하였다. 또한 이온빔 전류 밀도와 반응 산소의 양을 변화시키면서 증착 조건의 변화에 따른 IBAD Nb2O5 박막의 광학적 특성을 조사하였다.
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참고문헌 (7)

  1. Richter, F, Kupfer, H, Schlott, P, Gessner, T, Kaufmann, C. Optical properties and mechanical stress in SiO2/Nb2O5 multilayers. Thin solid films, vol.389, no.1, 278-283.

  2. KRISHNA, M. GHANASHYAM, BHATTACHARYA, A. K.. THICKNESS AND OXYGEN PRESSURE DEPENDENT OPTICAL PROPERTIES OF NIOBIUM OXIDE THIN FILMS. International journal of modern physics. B, Condensed matter physics, statistical physics, applied physics, vol.13, no.4, 411-418.

  3. Lee, Cheng-Chung; Hsu, Jin-Cherng etc. "Low loss niobium oxides film deposited by ion beam sputter deposition." Optical and quantum electronics, v.32 no.3 (2000), pp. 327-337, doi:10.1023/A:1007050204074.

  4. Lee, Cheng-Chung, Hsu, Jin-Cherng, Wong, Daw-Heng. The characteristics of some metallic oxides prepared in high vacuum by ion beam sputtering. Applied surface science, vol.171, no.1, 151-156.

  5. Song, Yizhou, Sakurai, Takeshi, Maruta, Kazuhiko, Matusita, Akinori, Matsumoto, Shigeharu, Saisho, Shinichiro, Kikuchi, Kazuo. Optical and structural properties of dense SiO2, Ta2O5 and Nb2O5 thin-films deposited by indirectly reactive sputtering technique. Vacuum, vol.59, no.2, 755-763.

  6. Kennedy, M, Ristau, D, Niederwald, H.S. Ion beam-assisted deposition of MgF2 and YbF3 films. Thin solid films, vol.333, no.1, 191-195.

  7. 10.1364/AO.35.005545 

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