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W-Cu의 마이크로 금속분말사출성형
Micro Metal Powder Injection Molding in the W-Cu System 원문보기

한국분말야금학회지 = Journal of Korean Powder Metallurgy Institute, v.9 no.4, 2002년, pp.267 - 272  

김순욱 (한양대학교 재료공학과) ,  양주환 (한양대학교 재료공학과) ,  박순섭 (전자부품연구원 바이오메카트로닉스 TF팀) ,  김영도 (한양대학교 재료공학과) ,  문인형 (한양대학교 재료공학과)

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The production of micro components is one of the leading technologies in the fields of information and communiation, medical and biotechnology, and micro sensor and micro actuator system. Microfabrication (micromachining) techniques such as X-ray lithography, electroforming, micromolding and excimer...

주제어

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문제 정의

  • 그러나, 최근에는 금속분말사출성형이나 세라믹 분말사출성형 기술을 이용하여 다양한 재료로 마이크로 부품을 제조하고자 하는 연구가 진행과정에 있다.9,10) 본 연구에서는 우수한 열적, 전기적 특성으로 미소전자부품의 패키징 혹은 하우징(housing) 재료로 주목 받고 있는 W-Cu 복합재료를11,12) 마이크로 금속사출 성형기술을 응용하여 마이크로 구조물을 제조하기 위한 예비실험을 행하였다. LIGA 공정으로 제조된 PMMA 희생금형을 이용한 마이크로 금속사출성형 기술의 응용 가능성을 확인하는 관점에서 최적의 사출성형조건과 희생금형의 제거 방법에 따른 성형체의 형태 안정성에 관한 기초 자료를 얻고자 하였다.
  • 9,10) 본 연구에서는 우수한 열적, 전기적 특성으로 미소전자부품의 패키징 혹은 하우징(housing) 재료로 주목 받고 있는 W-Cu 복합재료를11,12) 마이크로 금속사출 성형기술을 응용하여 마이크로 구조물을 제조하기 위한 예비실험을 행하였다. LIGA 공정으로 제조된 PMMA 희생금형을 이용한 마이크로 금속사출성형 기술의 응용 가능성을 확인하는 관점에서 최적의 사출성형조건과 희생금형의 제거 방법에 따른 성형체의 형태 안정성에 관한 기초 자료를 얻고자 하였다.
  • 본 연구에서는 금속분말사출성형 기술을 이용하여 W-Cu 마이크로 부품을 제조하기 위한 기초실험을 행하였다. 마이크로 금속사출성형에서 최적의 사출성형 조건과 PMMA 희생금형의 제거 방법에 따른 성형체의 형태 안정성에 관하여 조사하였다. 마이크로 금형에 W-Cu 장입재료를 완전히 충진시킬 수 있는 사출 공정은 장입재료 온도가 125℃ 일 때 100℃ 이상의 실린더 온도와 40 MPa의 성형압이었다.
  • 본 연구에서는 금속분말사출성형 기술을 이용하여 W-Cu 마이크로 부품을 제조하기 위한 기초실험을 행하였다. 마이크로 금속사출성형에서 최적의 사출성형 조건과 PMMA 희생금형의 제거 방법에 따른 성형체의 형태 안정성에 관하여 조사하였다.

가설 설정

  • 그림 3은 마이크로 금속사출성형에서 성형체의 이형공정을 3가지로 분류한 것을 나타낸 것이다.9) 기계적 이형은 마이크로 금형을 재사용할 수 있는 이점을 가지고 있다. 그러나 마이크로 구조물에 손상을 주지 않고 금형과 다이를 기계적으로 분리하여 성형체를 얻는 것은 거의 불가능하다.
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참고문헌 (13)

  1. E. Becker, W. Bier, W. Ehrfeld, and D. Munchmeyer: Kemforschungszentrum Karlsruhe GmbH, (1982). 

  2. D. W. L. Tolfree: Microsystem Technologies, 4 (1998) 51. 

  3. W. Pfleging, V. Piotter, and H. Besser: ECLAT -1998, Achen (1998). 

  4. A. Thies, V. Piotter, J. H. Hausselt, and O. F. Hagena: Microsystem Technologies, 4 (1998) 110. 

  5. G. Baumeister, K. Mueller, R. Ruprecht, and J. Hausselt: Microsystem Technologies, 8 (2002) 105. 

  6. V. Piotter, W. Bauer, T. Benszler, and A. Emde: Microsystem Technologies, 7 (2001) 99. 

  7. R. Ruprecht, T. Benzler, T. Hanemann, K. Muller, J. Konys, V. Piotter, G. Schanz, L. Schmidt, A. Thies, H. Wollmer, and J. Hausselt: Microsystem Technologies, 4 (1977) 28. 

  8. Z. Y. Liu, N. H. Loh, S. B. Tor, K. A. Khor, Y. Murakoshi, and R. Maeda: J. of Materials Science Letters, 20 (2001) 307. 

  9. W. Bauer, H. J. Ritzhaupt-Kleissl, and J. Hausselt: Ceramics International, 25 (1999) 201. 

  10. W. Bauer, H. J. Ritzhaupt-Kleissl, and J. Hausselt: Microsystem Technologies, 4 (1998) 125. 

  11. 문인형: 한국물리학회지-새물리, 38 (1998) 243. 

  12. Frank Petzoldt, Matthias Knuwer, Karl-Heinz Wichmann and Nicola De Cristofaro: Adv. in powder Metall. & Particulate Mater.-2000, New Orleans, 4 (2001) 4-118. 

  13. S. W. Kim, J. S. Ryu and I. H. Moon: Adv. in powder MetalI. & Particulate Mater.-2000, New York, 4 (2000) 4-101. 

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