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NTIS 바로가기韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.11 no.2, 2002년, pp.113 - 118
정필구 (인제대학교 광대역정보통신학과) , 임완태 (인제대학교 광대역정보통신학과) , 조관식 (인제대학교 광공학과) , 전민현 (인제대학교 광공학과) , 임재영 (인제대학교 광공학과) , 이제원 (인제대학교 광공학과) , 조국산 ((주)클라이오텍)
We developed engineering methods to control gas flow in a plasma reactor in order to achieve good etch depth uniformity for large area GaAs etching. Finite difference numerical method was found quite useful for simulation of gas flow distribution in the reactor for dry etching of GaAs. The experimen...
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