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이중 이온빔 스퍼터링 방식을 사용한 보조 이온빔의 Ar/O2가스 유량에 따른 Ta2O5 박막의 제조 및 특성분석
Characteristics Analysis and Manufacture of Ta2O5 Thin Films Prepared by Dual Ion-beam Sputtering Deposition with Change of Ar/O2Gas Flow Rate of Assist Ion Beam 원문보기

한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.40 no.12 = no.259, 2003년, pp.1165 - 1169  

윤석규 (성균관대학교 신소재공학과) ,  김회경 (전자부품연구원 광부품연구센터) ,  김근영 (성균관대학교 신소재공학과) ,  김명진 (전자부품연구원 광부품연구센터) ,  이형만 (전자부품연구원 광부품연구센터) ,  이상현 (인하대학교 물리학과) ,  황보창권 (인하대학교 물리학과) ,  윤대호 (성균관대학교 신소재공학과)

초록
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이중 이온빔 스퍼터링(Dual ion-beam sputtering)을 사용하여 보조이온건의 Ar/O$_2$가스유량 변화에 따라 Si-(III) 기판과 glass에 Ta$_2$O$_{5}$ 박막을 증착시켰다. 보조 이온총의 산소 가스량의 비가 감소함에 따라서 증착되는 Ta$_2$O$_{5}$ 박막의 성장속도는 감소하였으며, 굴절률은 $O_2$ 가스의 양이 0∼12sccm인 범위에서 2.09(at 1550nm)로 일정한 값을 나타내었다. Ar:O$_2$가 3: 12인 조건에서 화학양론 조성인 Ta$_2$O$_{5}$를 형성하였으며, 표면 거칠기도 가장 작은 값을 나타내었다.나타내었다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

The Ta$_2$O$_{5}$ thin film was deposited on Si-(III) and glass substrate with the change of Ar:O$_2$ gas flow rate in the assist ion gun by the Dual ion-Beam Sputtering (DIBS). As the $O_2$ gas flow of the assist ion gun was decreased, the deposition rate...

주제어

# $Ta_2$ $O_{5}$   #Dual ion beam sputtering   #Refractive index   # $Ar:O_2$   #Roughness  

참고문헌 (10)

  1. McNeil, John R., Barron, Alan C., Wilson, S. R., Herrmann, W. C.. Ion-assisted deposition of optical thin films: low energy vs high energy bombardment. Applied optics, vol.23, no.4, 552-.

    상세보기 crossref

  2. Guenther, K. H., Pulker, H. K.. Electron microscopic investigations of cross sections of optical thin films. Applied optics, vol.15, no.12, 2992-.

    상세보기 crossref

  3. Flory, F., Pelletier, Emile, Albrand, G., Hu, Y.. Surface optical coatings by ion assisted deposition techniques: study of uniformity. Applied optics, vol.28, no.14, 2952-.

    상세보기 crossref

  4. Thornton, John A.. Influence of apparatus geometry and deposition conditions on the structure and topography of thick sputtered coatings. The Journal of vacuum science and technology, vol.11, no.4, 666-670.

    상세보기 crossref

  5. Lottiaux, M.. Morphology and structure of TiO2 thin layers vs. thickness and substrate temperature. Thin solid films, vol.170, no.1, 107-126.

    상세보기 crossref

  6. Zhao, Yuanan, Wang, Yingjian, Gong, Hui, Shao, Jianda, Fan, Zhengxiu. Annealing effects on structure and laser-induced damage threshold of Ta2O5/SiO2 dielectric mirrors. Applied surface science, vol.210, no.3, 353-358.

    상세보기 crossref

  7. Fujiwara, Y., Toyoda, N., Mochiji, K., Mitamura, T., Yamada, I.. Reduction of surface roughness by Ta2O5 film formation with O2 cluster ion assisted deposition. Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, vol.206, 870-874.

    상세보기 crossref

  8. Song, Yizhou, Sakurai, Takeshi, Maruta, Kazuhiko, Matusita, Akinori, Matsumoto, Shigeharu, Saisho, Shinichiro, Kikuchi, Kazuo. Optical and structural properties of dense SiO2, Ta2O5 and Nb2O5 thin-films deposited by indirectly reactive sputtering technique. Vacuum, vol.59, no.2, 755-763.

    상세보기 crossref

  9. Cho, Sung-Dong, Paik, Kyung-Wook. Study on the amorphous Ta2O5 thin film capacitors deposited by dc magnetron reactive sputtering for multichip module applications. Materials science & engineering B, Solid-state materials for advanced technology, vol.67, no.3, 108-112.

    상세보기 crossref

  10. Kaufman, H. R., Cuomo, J. J., Harper, J. M. E.. Technology and applications of broad-beam ion sources used in sputtering. Part I. Ion source technology. The Journal of vacuum science and technology, vol.21, no.3, 725-736.

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