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NTIS 바로가기센서학회지 = Journal of the Korean Sensors Society, v.13 no.3, 2004년, pp.195 - 198
나경일 (경북대학교 전자공학과) , 허원녕 (경북대학교 전자공학과) , 부성은 ((주)컴텍스) , 이정희 (경북대학교 전자공학과)
For a diffusion barrier against copper, tantalum nitride films have been deposited on
J. Tao and N. W Cheung, IEEE Electron Device Lett., vol. 14, pp. 249, 1993
A. Broniatowski, Phys. Rev. Lett., vol. 62, pp. 3074, 1989
T. Oku, E. Kawakami, and M. Uekubo, Appl. Surf Sci., vol. 116, pp. 265, 1999
Vee S. C. Len, R. E. Hurley, N. McCusker, D. WMvNeill, B. M. Armstrong, and H. S. Gamble, 'An investigation into the perfonnance of diffusion bar-rier materials against copper diffusion using metal-oxide-semiconductor(MOS) capacitor structures', Solid-State Etectronics, vol. 43, pp. 1045-1049, 1999
M. Y. Kwak, D. H. Shin, T. W. Kang, and K. N.Kim, 'Characteristics of WN diffusion barrier layer for copper mentalization', Phys. Stat. Sot. (a) vol.174, pp. R5, 1999
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