$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

UV-NIL(Ultraviolet-Nano-Imprinting-Lithography) 방법을 이용한 나노 패터닝기술
Nano-patterning technology using an UV-NIL method 원문보기

韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.13 no.1, 2004년, pp.39 - 45  

심영석 (한국기계연구원 지능형 정밀기계연구부) ,  정준호 (한국기계연구원 지능형 정밀기계연구부) ,  손현기 (한국기계연구원 첨단산업기술연구부) ,  신영재 (한국기계연구원 지능형 정밀기계연구부) ,  이응숙 (한국기계연구원 지능형 정밀기계연구부) ,  최성욱 (아주대학교 분자과학기술학과) ,  김재호 (아주대학교 분자과학기술학과)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

UV-나노임프린팅 (Ultraviolet-Nanoimprinting Lithography:UV-NIL) 공정 기술은 수십 나노에서 수 나노미터 크기의 구조물을 적은 비용으로 대량생산 할 수 있다는 장점을 가지고 있는 기술로 최근 전세계적으로 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 반도체 공정 중 마스크 제작 공정을 이용하여 나노패턴을 가진 5${\times}$5${\times}$0.09 인치 크기의 수정스탬프(quartz stamp)를 제작하였고, 임프린팅 (imprinting)시에 레지스트(resist)와 스탬프(stamp) 사이에서 발생하는 점착현상(adhesion)을 방지하고자 그 표면에 Fluoroalkanesilane(FAS) 표면처리를 하였다. 웨이퍼의 평탄도를 개선하고 친수(hydrophilic) 상태의 표면을 만들기 위해 그 표면에 평탄화층을 스핀코팅하였고, 1 nl의 분해능을 가진 디스펜서(dispenser)를 이용하여 레지스트 액적을 도포하였다. 스템프 상의 패턴과 레지스트에 임프린트된 패턴은 SEM, AFM 등을 이용하여 측정하였으며, EVG620-NIL 장비를 이용한 임프린팅 실험에서 370 nm - 1 um 크기의 다양한 패턴을 가진 스탬프의 패턴들이 정확하게 레지스트에 전사됨을 확인하였다.

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

Ultraviolet-nanoimprint lithography (UV-NIL) is a promising method for cost-effectively defining nanoscale structures at room temperature and low pressure. A 5${\times}$5${\times}$0.09 in. quartz stamp is fabricated using the etch process in which a Cr film was employed as a ha...

주제어

#UV-나노임프린팅   #수정스템프  

참고문헌 (8)

  1. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4129 (1996) 

    상세보기 crossref

  2. S.V. Sreenivasan, in ASME International Conference on Integrated Nanosystems, Berkeley, CA, September 18-20, 2002 

  3. J. Haisma, M. Verheijen, and K. Heuvel, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4124 (1996) 

    상세보기 crossref

  4. T. C. Bailey, D. J. Resnick, D. Mancini, K.J. Nordquist, W. J. Dauksher, E. Ainley, A. Talin, K. Gehoski, J. H. Baker, B.J. Choi, S. Johnson, M. Colburn, M. Meissl, S. V. Sreenivasan, J. G. Ekerdt, and C.G. Willson, Microelectronics Eng. 61-62, 461 (2002) 

  5. J. J. Senkevich C. J.Mitchell G. R. Yang and T. M. Lu, Langmuir 18, 1587 (2002) 

    상세보기 crossref

  6. R. D. Peters, P. F. Nealey, J. N. Crain, and F. J. Jimpel, Langmuir 18, 1250 (2002) 

    상세보기 crossref

  7. T. C. Bailey, B. J. Choi, M. Colburn, M. Meissl, S. Shaya, J. G. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3572 (2000) 

    상세보기 crossref

  8. M. Schaepkens and G. S. Oehrlein, Applied Physics Letters 72, 1293 (1998) 

    상세보기 crossref

저자의 다른 논문 :

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로