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마스크 뒷면에 2 위상 회절 격자를 구현한 변형 조명 방법
Modified Illumination by Binary Phase Diffractive Patterns on the Backside of a Photomask 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.17 no.7, 2004년, pp.697 - 700  

이재철 (원광대학교 전기전자 및 정보공학부) ,  오용호 (원광대학교 전기전자 및 정보공학) ,  고춘수 (원광대학교 전기전자 및 정보공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We propose a method that realizes the modified illumination by implementing a binary phase grating at the backside of a photomask. By modeling the relationship between the shape of a grating on the photomask and the light intensity at the pupil plane, we developed a program named MIDAS that finds th...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 격자 모양을 설계하는 일은 쉽지 않다. 연구에서는 마스크의 뒷면에 놓인 격자 모양과 투영렌즈의 동공 면 상의 광량분포와의 관계를 간단한 모델로써 규명하고, 이 관계식을 이용하여 원하는 조명을 얻기 위한 격자 모양을 설계할 수 있는 프로그램인 MIDAS를 제작하였다. 이를 몇 가지 예제에 적용하여 본 결과 원하는 변형조명을 잘 구현할 수 있다는 결과를 얻었으며 이와 같은 격자의 사용은 광효율을 높일 수 있을 것으로 기대된다.
  • 투영광학계의 동공 면에서 사용자가 설정한 목표 이미지를 가장 정확하게 구현할 수 있는 회진패턴을 찾는 것이 본 프로그램의 목적이며 이를 달성하기 위한 방법으로 몬테 칼로 방법을 도이하였다.
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