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[국내논문] 저압 나노여과 공정에서의 유해성 유기물질의 거동
Behavior of Hazardous Organic Compounds in Low-Pressure Nanofiltration Process 원문보기

上下水道學會誌 = Journal of Korean Society of Water and Wastewater, v.18 no.2, 2004년, pp.165 - 173  

오정익 (한국과학기술연구원 수질환경 및 복원연구센터) ,  이석헌 (한국과학기술연구원 수질환경 및 복원연구센터) ,  이보영 (한국환경기술진흥원)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Behavior of hazardous organic compounds including bisphenol A, phtalic acid, and phosphoric acid in low pressure nanofiltration process were investigated. In the case of NTR729HF, rejection of all target organic compounds except 2-H-Benzothiazol and 2-isopropyl phenol was more than 90%. The lowest r...

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문제 정의

  • 본 연구에서는, 나노여과 공정에 의한 각종 유해성 유기물질의 제거 특성을 조사하고, 확산과 이류로 구성된 모델 구조를 기본으로 하여, 유해성 유기 물질의 제거특성을 설명하기 위한 간단한 평가수법의 개발을 시도하였다.
  • 유해성 유기물질의 여과실험에서 얻어진 제거율로부터 , Ks 를 구하고, 이를 다른 영향 인자와 비교 평가하고자 하였다.
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참고문헌 (16)

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