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Photo reflectance Measurement in Si$_{3}$N$_{4}$/ Al$_{0.21}$Ga$_{0.79}$ As/GaAs Heterostructure 원문보기

KIEE international transactions on electrophysics and applications, v.5C no.2, 2005년, pp.54 - 57  

Yu Jae-In (Department of Physics, Yeungnam University) ,  Park Hun-Bo (Department of Physics, Yeungnam University) ,  Choi Sang-Su (Department of Physics, Yeungnam University) ,  Kim Ki-Hong (Department of Physics, Yeungnam University) ,  Baet In-Ho (Department of Physics, Yeungnam University)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Photoreflectance (PR) has been measured to investigate the characterization of the Si$_{3}$N$_{4}$Al$_{0.21}$ Ga$_{0.79}$As/GaAs and Al$_{0.21}$Ga$_{0.79}$As/GaAs heterostructures. In the PR spectrum, the caplayer thickness was 170 nm...

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  • 2. When cap layer thickness is 170 nm, EH and C signals are observed between GaAs and Alo.21Gao.79As interface. EH signals could be attributed to interference effects from the Si3N4ZAlo.
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참고문헌 (14)

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