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[국내논문] Sol-Gel 법을 이용한 PLT(28) 박막의 제작과 특성
Preparation and Characteristics of PLT(28) Thin Film Using Sol-Gel Method 원문보기

한국해양정보통신학회논문지 = The journal of the Korea Institute of Maritime Information & Communication Sciences, v.9 no.7, 2005년, pp.1491 - 1496  

강성준 (여수대학교 반도체학과) ,  정양희 (여수대학교 전기공학과) ,  류재흥 (여수대학교 컴퓨터공학과)

초록
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[ $Pb_{0.72}La_{0.28}TiO_3$ ] (PLT(28)) 박막sol-gel 법을 이용하여 제작한 후, 그 특성을 조사하여 ULSI DRAM캐패시터 절연막으로서의 적용 가능성을 연구하였다. Sol-gel 법의 출발 물질로는 acetate 계를 사용하였다. TGA-DTA 분석을 통하여 PLT(28) 박막의 sol-gel 법에 의한 공정 조건을 확립하였다. 매 coating 후 $350^{\circ}C$ 에서 drying 하고, 마지막으로 $650^{\circ}C$ 에서 annealing 하여 $100\%$ perovskite 구조를 가지는 치밀하고 crack 이 없는 PLT(28) 박막을 얻었다. $Pt/Ti/SiO_2/Si$ 기판 위에 PLT(28) 박막을 형성하여 전기적 특성을 측정하였다. 그 결과 유전 상수와 누설전류밀도가 각각 936 과 $1.1{\mu}A/cm^2$ 으로 측정되었다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We fabricated the $Pb_{0.72}La_{0.28}TiO_3$ (PLT(28)) thin film successfully by using the sol-gel method and characterized it to evaluate its potential for being utilized as the capacitor dielectrics of ULSI DRAMs. In our sol-gel process, the acetates were used as the starting materials. ...

주제어

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문제 정의

  • 즉 La 의 첨가량이 28 mol% 일 경우 이 강유전성 물질의 curie 온도가 -25℃ 정도가 되어 그 이상의 온도에서는 상유전상을 가짐으로서 DRAM 의 capacitor dielectric 에 적 용하기 에 알맞게 된 匸片‘61 강유전체 박막의 제작방법으로는 electron beam deposition, RF sputtering 등의 여러가지 방법이 있으나 최근에는 설비가 매우 간단하고 박막을 제조하는 시간이 짧게 걸려서 장비 면에 있어서나 가격 면에 있어서 유리하고 또한 조성을 제어하기가 용이하다는 장점을 가진 sol-gel 법이 많이 연구되어지고 있다.。이 본 연구 에서도 sol-gel 법을 이용하여 PLT(28) 박막을 제작하고 그 물성과 전기적 성질을 조사하여 ULSI DRAM 의 capacitor dielectric 으로서의 응용 가능성을 연구하였다.
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참고문헌 (11)

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  9. W. D. Kingery, H. K. Bowen and D. R. Uhlman, Introduction to Ceramics : 2nd ed., John Wiley & Sons, Inc., New York, pp. 937 (1976) 

  10. J. Carrano, C. Sudhama, J. Lee, A. Tasch and W. Miller, 'Electrical and Reliablity Characteristics of PZT Ferroelectric Thin Films for DRAM Applications', IEDM Tech. Dig., pp. 255-258 (1989) 

  11. H. Hu and S. B. Krupanidhi, 'Electrical Characterization of PZT Thin Films', Proceedings of the 8th IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics, pp. 440-443 (1992) 

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