[논문]EUV 포토레지스트용 polynorbornene의 합성과 성능평가

곽영제

EUV 포토레지스트용 polynorbornene의 합성과 성능평가
Novel Silicon-containing Polynorbornenes as Photoresists for Extreme Ultraviolet Lithography

한국섬유공학회지 = Textile science and engineering, v.43 no.5 = no.278, 2006년, pp.223 - 227

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Performance requirements for extreme ultraviolet (EUV) resists using photons at $\sim$13 nm may require the development of entirely new polymer platforms. Elements that are commonly used in photoresists at other wavelengths, such as oxygen and fluorine, are highly absorbing in this region making them problematic for EUV applications. We have devised new polymer platform for EUV lithography (EUVL). We have synthesized silicon-containing norbornene copolymers using ring-opening metathesis polymerization (ROMP). The norbornene monomers were prepared and copolymerized with a series of monomers having acid sensitive and polar groups, including nitrile, carboxylic acid, hydroxyl, and anhydride functions to achieve random copolymers with suitable properties for EUVL. From initial exposure studies using an EUV interferometer, we were able to produce patterns having a 150 nm pitch without additional optimization.

주제어

참고문헌 (11)

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F. Stelzer et al., presented at the 230th ACS National Meeting, Boston, 2002

저자의 다른 논문 :

표제어: PCR

동의어: Packet Collision Rate

용어 설명 출처 목록 (6)

용어 설명: PCR은 세균 특이성이 있는 primer를 이용하여 적은 수의 세균이 있을지라도 쉽게 검출할 수 있는 유용한 방법이며, 이를 이용하여 구강 내 치면세균막이나 타액에서 직접 세균을 검출할 수 있게 되었다[8].

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