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제안 방법
- 구동회로 기술은 특정한 화소에서 계조(brightness, gray scale) 를 변화시 키는 방법 인 구동방식 기 술과 화소 간의 균일도 등을 보상하는 기 술인 컨트롤 로직 기 술로 구분하여분석 하였고, 구동방식 기 술은다시 각 화소에 인가되는 전류 또는 전압의 크기를 조절하는 방식 인 PAM(pulse amplitude modulation)과인정한 전류와 전 압인가시 시간 자체를 조절하는 방식 인 PWM(pulse width modulation)으로구분하였으며 , 컨트롤 로직 기술은 감마보정, 타이밍 조절, 화소간 균일도 보상 및 APL(average picture level)로구분하여분석하였다.
- 애노드 판은 애노드전극, 블랙 매트릭 스및 형광체의 3가지 기 술로 구분하여 분석하였으며 , 여기서 애노드 전극은 다시 일체 전극형과, 라인 전극형으로 분류하였고, 블랙 매트릭스는 재료와형상으로 분류하였으며, 형광체는 재료로 분류하여 분석을 실시하였다.
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진공실장특허분석
진공실장기술은스페이서와게터 및 실장구조기술로 구분하여 분석을 실시 하였고, 그 중스페 이 서는 다시 재료, 형상코팅 기술로, 게터는 게터 재료및 게터 실장구조기 술로, 실장구조는튜브 배기 형 , 인-라인형 및 기타기 술로분류하여 분석하였다.
- 캐소드 판은 전자를 방출하는 근원이 되는 전자방출원 기술과, 캐소드 구조 기술로 구분하여 분석하였으며 , 여기서 전자방출원은 다시 팁형(tip-type), 평면형(flat -type), 및 카본나노튜브(Carbon Nanotube: CNT) 로기 술분류하여 분석을 실시하였고, 캐소드 구조 기 술은 캐소드 전극, 게이트 전극, 집속 전극, 저항층 및 기타로 기술 분류하여 분석을 실시하였다.
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