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Analysis of Temperature Effects on Raman Silicon Photonic Devices 원문보기

Journal of the Optical Society of Korea, v.12 no.4, 2008년, pp.288 - 297  

Kim, Won-Chul (School of Electronic and Electrical Engineering, Hongik University) ,  Park, Dong-Wook (School of Electronic and Electrical Engineering, Hongik University)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Recent research efforts on study of silicon photonics utilizing stimulated Raman scattering have largely overlooked temperature effects. In this paper, we incorporated the temperature dependences into the key parameters governing wave propagation in silicon waveguides with Raman gain and investigate...

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  • In this paper, we investigated the potential effects that a temperature change can have on the performances of SRS-based silicon photonic devices from a theoretical standpoint, a topic mostly unaddressed in the past. This issue is of paramount importance for development of field-deployable Raman silicon devices because of the high device temperature expected due to the high beam intensity and narrow crossectional area involved.
  • The physical origin of the optical phonon taking part in Raman scattering is lattice vibration, and thus the optical phonon’s characteristics depend on the particular propagation direction along the crystal structure. In this paper, we shall assume that the silicon waveguide structure, the basic building block for various types of Raman photonic devices, is of the rib waveguide type directed along the direction (see Fig. 1(a)), a choice which is desirable in two respects. One, this orientation is opted for in most commercial CMOS silicon fabrication, which would render the existing facilities readily available for low-cost production of Raman photonic devices.
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참고문헌 (24)

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