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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.21 no.2, 2008년, pp.111 - 117
김좌연 (호서대학교 신소재공학과) , 최상수 ((주)PKL) , 강병선 ((주)PKL) , 민동수 ((주)PKL) , 안영진 ((주)PKL)
We have studied surface roughness, contamination of impurity, bonding with some gas element, reflectance and zeta potential on masks to be generated or changed during photolithography/dry or wet etching process. Mask surface roughness was not changed after photolithography/dry etching process. But s...
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R. A. Lawea, 'Future trends in high-resolution lithography', Applied Surface Science 154-155, p. 519, 2000
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K. Bhattacharyya and J. Ayala, 'Investigation of reticule defect formation at DUV lithography', Proceedings of SPIE, 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology, Vol. 4889, p. 478, 2002
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