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[국내논문] 현상공정에서 표면장력에 의한 극미세 3 차원 구조물의 변형거동 분석 및 저감방안에 관한 연구
Investigation into Deformation of Three-Dimensional Microstructures via Surface Tension of a Rinsing Material During a Developing Process 원문보기

大韓機械學會論文集. Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A. A, v.32 no.4 = no.271, 2008년, pp.303 - 309  

박상후 (부산대학교 정밀금형 및 금형가공연구소 (ERC)) ,  양동열 (한국과학기술원 기계공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Dense and fine polymer patterns often collapse, as they come into contact with each other at their protruding tips. Resist pattern collapse depends on the aspect ratio of patterns and the surface tension of rinsing materials. The pattern collapse is a very serious problem in microfabrication, becaus...

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문제 정의

  • 그 중에서도 형상을 제작한 후 주변에 남아 있는 단량체(monomer)를 제거하는 과정에서 현상액(rinsing material)의 표면장력에 의하여 변형이 발생되는 문제는 정밀한 형상제작을 위해서 반드시 해결해야 될 과제이다. 본 연구에서는 정밀한 극미세 3 차원 형상을 제작하기 위해서 이러한 현상공정(development process)에서의 변형 문제에 대한 이론적 분석과 변형저감을 위한 방안을 알아보았다.
  • 그러나 이러한 경우 복셀의 높이도 같이 증가하여 적층방식으로 정밀한 3 차원 형상을 제작하는데 어려움이 있다. 따라서 본 연구에서는 다중 윤곽선 스캐닝법을 이용하여 원하는 폭만큼을 복셀의 높이 변화 없이 얻을 수 있는 방법을 제안하였다[Fig. 6(a) 참조].
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핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
이광자 광중합에 의하여 3 차원 형상을 제작할 경우 크게 두가지의 레이저 스캐닝법으로 분류가 되는데 각각의 세부사항은 무엇입니까? 이광자 광중합에 의하여 3 차원 형상을 제작할 경우 크게 두가지의 레이저 스캐닝법으로 분류가 된다. 첫째는 2 차원 단면의 전면을 레이저로 조사하여 경화시킨 뒤 적층하여 형상을 제작하는 방식이다(전면 스캐닝법). 이러한 경우 형상의 강성은 높아지지만 전면 조사에 따른 제작시간이 많이 걸려 제작효율이 매우 낮다. 따라서 일반적으로 형상의 외곽선만 광중합으로 경화시켜서 형상을 완성한 뒤 필요에 따라 자외선(ultraviolet)을 조사하여 형상의 내부에 남아있는 단량체를 광중합 시켜 제작하는 방법(윤곽선 스캐닝법)을 사용한다. 하지만 윤곽선 스캐닝법으로 형상을 제작할 경우 앞서 기술한 현상공정에서 현상액의 표면장력에 의하여 변형이 쉽게 발생할 수 있다. 따라서 다중 윤곽선 스캐닝법을 이용하여 형상의 정밀도에는 큰 영향을 주지 않으면서 윤곽선의 패턴 두께를 증가시켜서 현상액의 표면장력에 의한 변형을 최소화하는 방법을 제안하였다.
이광자 광중합 공정에서 제작되는 형상의 정밀도는 무엇에 의해서 결정됩니까? 이광자 광중합 공정에서 제작되는 형상의 정밀도는 기본 단위인 타원회전체 모양의 복셀(voxel)의 크기에 따라 결정된다. 광중합이 되는 임계 에너지 부근에서 복셀의 단위 크기와 모양은 레이저의 조사시간과 출력에 따라 결정되며 레이저의 출력이 높을수록 복셀의 길이방향이 증가하고(P-scheme), 레이저의 조사시간이 길어질수록 광중합을 유도하는 라디칼(radical)의 확산에 의하여 복셀의 폭 방향의 증가가 일어난다(T-scheme).
극미세 3 차원 제작기술을 실제 공정에서 활용하기 위해서 반드시 해결해야 하는 과제는 무엇입니까? 그런데 이러한 극미세 3 차원 제작기술이 실제 공정에서 활용되기 위해서는 해결해야 될 몇 가지의 문제점이 아직 남아있다. 그 중에서도 형상을 제작한 후 주변에 남아 있는 단량체(monomer)를 제거하는 과정에서 현상액(rinsing material)의 표면장력에 의하여 변형이 발생되는 문제는 정밀한 형상제작을 위해서 반드시 해결해야 될 과제이다. 본 연구에서는 정밀한 극미세 3 차원 형상을 제작하기 위해서 이러한 현상공정(development process)에서의 변형 문제에 대한 이론적 분석과 변형저감을 위한 방안을 알아보았다.
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참고문헌 (16)

  1. Sun, H.B., Takada, K. and Kawata, S., 2003, 'Scaling Laws of Voxels in Two- Photopolymerization Nanofabrication,' Appl. Phys. Lett., Vol.83, No.6, pp1104-1106 

  2. Park, S.H., Lim, T.W., Yang, D.Y., Kong, H.J., 2004, 'Directly Nano-precision Feature Patterning on Thin metal Layer using Top-down Building Approach in nRP Process,' J. of KSPE, Vol. 21, No. 6, pp. 153-159 

  3. Park, S.H., Jeong, J.H., Lim, T.W., Yang, D.Y., Kim, K.D., Lee, K.S. Kong, H.J., 2006, 'Effective Fabrication of Three-dimensional Nano/ micro-structures in a Single Step,' Appl. Phys. Lett., Vol. 88, Paper No. 203105 

  4. Lim, T.W., Park, S.H., Yang, D.Y., Kong, H.J., Lee, K.S., 2006, 'Direct Single-layered Fabrication of 3D Concavo-convex Patterns in Nano-stereolithography,' Appl. Phys. A, Vol. 84, pp. 379-383 

  5. Park, S.H., Lim, T.W., Yang, D.Y., Kong, H.J., Lee, K.S., 2006, 'Direct Laser Patterning on Opaque Substrate in Two-photon Polymerization,' Macromol. Res., Vol. 14, No. 2, pp. 245-250 

  6. Park, S.H., Lee, S.H., Yang, D.Y., Kong, H.J., Lee, K.S., 2005, 'Subregional Slicing Method to Increase 3D Nanofabrication Efficiency in Two-photon Polymerization,' Appl. Phys. Lett., Vol. 87, Paper No. 154108 

  7. Maruo, S., Ikuta, K., 2000, 'Fabrication of Freely Movable Microstuructures by using Two-photon Three-dimensional Microfabrication,' Proc. of SPIE, Vol. 3937, pp. 106-112 

  8. Kawata, S., Sun, H.B., Tanaka, T., Takada, K., 2001, 'Finer Features for Functional Microdevices,' Nature, Vol. 412, No. 16, pp. 697-698 

  9. Serbin, J., Egbert, A., Ostendorf, A., Chichkov, B.N., 2003, 'Femtosecond Laser-induced Two-photon Polymerization of Inorganic-Organic Hybrid Materials for Applications in Photonics,' Opt. Lett., Vol. 28, No. 5, pp. 301-303 

  10. Park, S.H., Lim, T.W., Yang, D.Y., Yi, S.W., Kong, H.J., 2005, 'Direct Fabrication of Micro-Patterns and Three-Dimensional Structures using Nano Replication Printing (nRP) Process,' Sensor. Mater., Vol. 17, No. 2, pp. 65-75 

  11. Kato, J., Takeyasu, N., Adachi, Y., Sun, H.B., Kawata, S., 2005, 'Multiple-spot Parallel Processing for Laser Micronanofabrication,' Appl. Phys. Lett., Vol. 86, Paper No. 044102 

  12. Park, S.H., Lim, T.W., Yang, D.Y., Kong, H.J., 2004, 'Fabrication of a PDMS Stamp using Nano-Replication Printing Process,' Trans. of KSME(A), Vol. 28, No. 7, pp. 999-1005 

  13. Pham, A.T., Kim, D.P., Lim, T.W., Park, S.H., Yang, D.Y., Lee, K.S., 2006, 'Three-dimensional SiCeramic Structures via Nano-stereolithography of Inorganic Polymer Photoresist,' Adv. Func. Mater., Vol. 16, pp. 1235-1241 

  14. Tanaka, T., Ishikawa, A., Kawata, S., 2006, 'Two-photon-induced Reduction of Metal Ions for Fabricating Three-dimensional Electrically Conductive Metallic Microstructure,' Appl. Phys. Lett., Vol. 88, Paper No. 081107 

  15. Tanaka, T., Morigami, M., Atoda, N., 1993, 'Mechanism of Resist Pattern Collapse during Development Process,' Jpn. J. Phys., Vol. 32, pp. 6059-6064 

  16. Deguchi, K., Miyoshi, K., Ishii, T., Matsuda, T., 1992, 'Patterning Characteristics of a Chemically-Amplified Negative Resist in Synchrotron Radiation Lithography,' Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 31, pp. 2954-2958 

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