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Ar이온 충돌에 의한 Au, Pd(001) 표면에서 재증착 효과의 분자동역학 연구

Molecular dynamics study of redeposition effect by Ar ion bombardments on Au, Pd(001)

韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.17 no.2, 2008년, pp.81 - 89  

김상필 (한국과학기술연구원 계산과학센터) ,  김세진 (한국과학기술연구원 계산과학센터) ,  김도연 (서울대학교 재료공학부) ,  정용재 (한양대학교 신소재공학부) ,  이광렬 (한국과학기술연구원 계산과학센터)

초록
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분자동역학을 이용하여 이온빔 스퍼터링 과정에서 원자의 거동을 연구하였다. Ar이온이 Au와 Pd(001) 표면에 다양한 에너지와 입사각도로 충돌할 때, 표면원자들 중 일부는 공간으로 떨어져 나갔으며, 반응 후 일부 원자들은 초기 표면보다 위쪽에 재증착 되는 현상이 관찰되었다. 재증착 원자의 수율은 스퍼터된 원자보다 Au의 경우 약 5배, Pd의 경우 약 3배 많이 입사 에너지와 입사 각도에 상관없이 발생됨을 확인하였다. 연속된 입사계산을 통해, 스퍼터링 과정에 발생되는 다양한 표면 패턴 형성 메커니즘을 식각만으로 설명하고 있는 종래의 개념과는 달리, 이온빔으로 인해 끊임없이 발생되는 재증착 원자들이 표면의 구조를 형성하는데 중요한 역할을 하는 것으로 확인되었다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Atomic behavior during ion beam sputtering was investigated by using classical molecular dynamics simulation. When Ar ion bombards on Au and Pd(001) surface with various incidence energies and angles, some atoms which gained substantial energy by impacting Ar ion were sputtered out and, simultaneous...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 분자동역학 계산 결과의 신뢰도는 사용된 원자간 포텐셜의 정확도에 크게 의존한다. 본 연구는 이온 스퍼터링 현상을 모사하기 위해서 두 종류의 원자간 포텐셜 함수를 조합하여 적용하였다. 타깃 재료로 선택된 Au와 Pd의 열적 기계적 거동을 모사하기 위해서 금속재료에 적합하기로 잘 알려진 embedded atom method (EAM)포텐셜 함수[21]를 사용하였다.
  • 본 연구는 이온빔의 충돌 과정에서 발생되는 다양한 현상들 가운데, 충돌 이후 타깃 원자들이 표면위로 올라오는 재증착(redepsoition)에 관한 정량적 분석을 하였다. 그림 2는 본 연구와 관련하여 스퍼터링 과정을 효과적으로 이해하기 위한 snapshot들이다.

가설 설정

  • 실제 실험에서는 Ar이 약한 전하를 띄고 있으나, 본 계산에서는 그 효과를 무시하였다. 즉, 금속기판은 도체여서 전하입자에 의한 charging이 일어나지 않기 때문에 표면원자의 거동에 영향을 주지 않는다고 가정하였다. 여기서는 입사되는 Ar 원자는 불활성 이온이므로 타깃원자와 반응하지 않지만, 타깃원자에 매우 가깝게 접근했을 때에는 강한 척력을 보이게 된다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
스퍼터링은 어떤 현상을 이용하는 것인가? 전자소자 등 핵심적인 기술에 널리 사용되는 공정인 스퍼터링(sputtering)은 가속된 이온을 타깃에 충돌시킴으로 써 발생되는 원자의 되튐 현상을 이용한 것이다[1]. 이 현상은 타깃 원자를 강제적으로 떼어내어 거친 표면을 매끄럽게 하거나, 매끄러운 표면에 균열을 가해서 증착이나 흡착을 유도하는데 이용되기도 하며, 떼어낸 원자들을 모아서 기판에 쌓이게 하는 박막성장의 용도로 주로 응용되고 있다.
이온빔 스퍼터링에 대한 이론적 연구는 무엇을 기초로 지금까지 발전해왔는가? 이온빔 스퍼터링에 대한 이론적 연구는 1960년대 Sigmund의 이론을 기초로 하여 지금까지 수많은 연구가 발전되어 왔다[13]. 이 이론에 따르면, 표면 식각은 입사된 이온으로부터 전달된 에너지가 전파되면서 발생된다고 설명한다.
Ar이온이 Au와 Pd(001) 표면에 다양한 에너지와 입사각도로 충돌하는 반응 후 나타나는 재증착 현상의 수율은? Ar이온이 Au와 Pd(001) 표면에 다양한 에너지와 입사각도로 충돌할 때, 표면원자들 중 일부는 공간으로 떨어져 나갔으며, 반응 후 일부 원자들은 초기 표면보다 위쪽에 재증착 되는 현상이 관찰되었다. 재증착 원자의 수율은 스퍼터된 원자보다 Au의 경우 약 5배, Pd의 경우 약 3배 많이 입사 에너지와 입사 각도에 상관없이 발생됨을 확인하였다. 연속된 입사계산을 통해, 스퍼터링 과정에 발생되는 다양한 표면 패턴 형성 메커니즘을 식각만으로 설명하고 있는 종래의 개념과는 달리, 이온빔으로 인해 끊임없이 발생되는 재증착 원자들이 표면의 구조를 형성하는데 중요한 역할을 하는 것으로 확인되었다.
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참고문헌 (30)

  1. M. V. R. Murty, Surf. Sci. 500, 523 (2002) 

  2. S. Facsko, T. Dekorsy, C. Koerdt, C. Trappe, H. Kurz, A. Vogt, and H. L. Hartnagel, Science 285, 1551 (1999) 

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  5. S. Vogel, and S. J. Linz, Europhys. Lett. 76(5), 884 (2006) 

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  12. K. C. Ruthe, and S. A. Barnett, Surf. Sci. 538, L460 (2003) 

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  23. M. A. Karolewski, Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. B 230, 402 (2005) 

  24. R. Smith, M. Shaw, R. P. Webb, and M. A. Foad, J. Appl. Phys. 83, 3148 (1998) 

  25. V. Belko, M. Posselt, and E. Chagarov, Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. B 202, 18 (2003) 

  26. A. Friedrich, and H. M. Urbassek, Surf. Sci. 547, 315 (2003) 

  27. T. Michely, and C. Teichert, Phys. Rev. B 50, 11156 (1994) 

  28. H. Gades, and H. Urbassek, Phys. Rev. B 50, 11167 (1994) 

  29. P. Mishra, and D. Ghose, Phys. Rev. B 74, 155427 (2006) 

  30. C.J. Smith, Metal Reference Book (Butterworths, London 1976) 

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