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[국내논문] 감광성 PVA 박막을 이용한 P3HT 유기박막트랜지스터의 패턴 형성과 패시베이션
Simultaneous Patterning and Passivation of P3HT-OTFTs with Photosensitive Poly Vinyl-alcohol(PVA) Layer 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.21 no.5, 2008년, pp.426 - 433  

남동현 (미리넷솔라) ,  박경동 (일본 동북대 공학연구과) ,  박정환 (매그나칩 반도체) ,  한교용 (영남대학교 전자정보공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We first demonstrated simultaneous patterning and passivation of P3HT active layer with photosensitive PVA. The passivation layers were obtained by annealing the organic layers after developing PVA and subsequent over-etching the P3HT layer. The fabricated OTFTs were electrically characterized. The ...

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문제 정의

  • 따라서 본 연구에서는 감광성 폴리비닐알코올을포토레지스트 대신에 포토리소그래피 공정에 사용하여 P3HT-OTFT의 성능 향상을 위한 반도체 활성층의 패터닝과 대기 중에서 디바이스의 수명을연장하기 위한 패시베이션을 동시에 수행하여 디바이스를 제작하였다. 제작 후 패터닝에 의한 전기적인 성능 변화를 측정하였으며, 대기중에 보관하여 시간에 따른 P3HT-OTFT의 전기적인 성능의변화를 측정하였다
  • 이러한 문제를 해결하기 위해, P3HT 활성층의패터닝을 위한 포토리소그래피의 포토레지스트 대용 및 패시베이션 박막으로 폴리비닐알코올 (PVA) 사용을 본 논문에서 제안하였다. 폴리비닐알코올 (PVA) 은 대표적인 수용성 유기물이며 중크롬산암모늄(Ammonium dichromate) 을 혼합하게 되면 감광성을 가지게 된다.
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