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Contrast 향상 필름 평가를 위한 실시간 검사장치 개발
Inspection System for Tracing Defects of Optical Film Using Contact Image Sensor 원문보기

한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, v.19 no.4, 2008년, pp.310 - 314  

이혁교 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  전병혁 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  이회윤 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  이윤우 (한국표준과학연구원 우주광학연구단)

초록
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PDP(plasma display panel)를 비롯한 대형 디스플레이는 외부의 광이 디스플레이 내부로 입사될 경우 화질 및 명암이 저하된다. 이 문제를 해결하기 위해서 최근 관련 산업체에서는 $1\;m^2$급의 대형 투명필름 위에 수십${\sim}$수백 ${\mu}m$ 수준의 미세 패턴을 새겨서 외부 광을 차단하는 contrast 향상 필름을 개발 중이다. 이 필름이 디스플레이에 적용되려면 가장 중요한 것이 패턴의 균일도 및 이물 여부이다. 하지만 기존의 검사장비로는 $1\;m^2$급의 대형 광학 필름을 $100\;{\mu}m$ 수준의 분해능으로 짧은 시간 내에 측정할 수 없다. 본 연구에 서는 이것이 가능한 검사장비를 제안, 구축하며 실험을 통해 평가한다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The light from the exterior considerably deteriorates the performance of displays including PDP (plasma display panel). Thus semi-conductor industries have developed a special optical film that can block or absorb the exterior light. In this paper, we propose a new inspection system for tracing the ...

주제어

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 CIS를 이용해서 contrast 향상 필름을 평가할 수 있는 새로운 검사장치를 제안하고 직접 구축, 평가했다. 이 검사장치는 최대 1.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
대형 디스플레이에 외부의 광이 디스플레이 내부로 입사될 경우 어떠한 영향을 받는가? PDP(plasma display panel)를 비롯한 대형 디스플레이는 외부의 광이 디스플레이 내부로 입사될 경우 화질 및 명암에 큰 영향을 받는다. 이 효과를 차단, 혹은 감소시키기 위해서 국내외 산업계에서는 현재 다양한 연구가 진행 중이며, 그가운데 하나로 contrast 향상 필름이 제안되었다.
contrast 향상 필름을 성형하는 방법은? 이 효과를 차단, 혹은 감소시키기 위해서 국내외 산업계에서는 현재 다양한 연구가 진행 중이며, 그가운데 하나로 contrast 향상 필름이 제안되었다. 이 필름은 포토리소그라피(photolithography) [1,2] 에 기반을 둔 반도체 제조 공정을 응용해서, 금형을 쓰지 않고 UV(ultraviolet) 광에 반응하는 고분자 수지를 이용해서 성형한다. 이와 같은 방식으로 제작된 contrast 향상 필름은 수십~수백 μm 수준의 미세한 프리즘 구조를 이용해서 외부에서 입사하는 빛을 흡수, 혹은 차단하며, 그 결과 필름을 사용하지 않은 디스플레이에 비해서 contrast 비를 두 배 이상 향상시킬 수 있다.
contrast 향상 필름을 제작할 때 가장 중요한 요소는 무엇인가? 위에서 언급한 contrast 향상 필름을 제작할 때 가장 중요한 요소 가운데 하나가 바로 패턴의 균일도(uniformity)이다. 균일도가 떨어지는 필름은 디스플레이에 사용될 수 없으므로, 필름의 생산 수율을 높이려면 필름의 미세구조가 얼마나 고르게 분포되어 있는지 여부를 빠르게 측정, 평가하는 검사 장치가 필요하다.
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참고문헌 (10)

  1. H. P. Urbach and D. A. Bernard, “Modeling latent-image formation in photolithography, using the Helmholtz equation,” J. Opt. Soc. Am. A, 6, pp. 1343-1356, 1989 

  2. J. P. Auton, “Infrared transmission polarizers by photolithography,” Appl. Opt., 6, pp. 1023-1027, 1967 

  3. W. Lee, “Signal processing techniques for CCD image sensor,” Appl. Opt., 20, pp. 4280-4284, 1984 

  4. E. R. Fossum, “CMOS Image Sensors: Electronic Camera- On-A-Chip,” IEEE Trans. Electron. Devices, 44, pp. 1689-1698, 1997 

  5. www.tichawa.de 

  6. J. P. Oakley and R. T. Shann, “Efficient method for finding the position of object boundaries to sub-pixel precision,” Image & Vision Computing, 9, pp. 262-272, 1991 

  7. K. Jensen and D. Anastassiou, “Subpixel edge localization and the interpolation of still images,” IEEE Trans. Image Processing, 4, pp. 285-294, 1995 

  8. J. Kim and B. H. Lee, “Murine Heart Wall Imaging with Optical Coherence Tomography,” J. Opt. Soc. Kor., 10, pp. 42-47, 2006 

  9. J. W. Goodman, Introduction to Fourier optics (McGraw-Hill, Singapore, 1996), Chap. 6, pp. 126-165 

  10. www.ni.com 

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