최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.41 no.4, 2008년, pp.134 - 141
김영욱 (군산대학교 신소재.나노화학공학부 신소재공학) , 양원균 (군산대학교 신소재.나노화학공학부 신소재공학) , 주정훈 (군산대학교 신소재.나노화학공학부 신소재공학)
We have developed a numerical model for a remote ICP(inductively coupled plasma) system in 2D and 3D with gas distribution configurations and confirmed it by plasma diagnostics. The ICP source has a Cu tube antenna wound along a quartz tube driven by a variable frequency rf power source(
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
---|---|---|
미터 급의 챔버에는 어떤 가스 노즐을 사용하는 것이 보통인가? | 따라서 유용한 결과를 일정한 시간 내에 얻기 위해서 는 최적 계산 전략이 필요하다. 미터 급의 챔버에 1 mm 내외의 가스 노즐을 사용하는 것이 보통인데 수치 모델에서 이를 계산하기 위해서는 전체적인 그리드의 크기를 작게 하여야 하므로 연산 시간이 오래 걸리며 확대 계수를 크게 하는 경우에는 수렴성에 문제를 유발한다. 플라즈마가 포함된 계산의 경우 특히 정규화가 잘된 그리드 구조가 필수적인 데 이와 같은 작은 노즐이 포함된 반응기의 계산은 3D CCP 계산을 어렵게 하는 주 요인이다. | |
반도체 웨이퍼에 증착 또는 식각되는 박막의 균일도를 향상시키기 위하여 어떤 시도들이 있었는가? | 반도체 웨이퍼의 대구경화 및 LCD, PDP 패널의 대형화에 따라 증착 또는 식각되는 박막의 균일도가 큰 관심사가 되고 있으며 균일도를 향상시키기 위하여 반응기의 샤워헤드와 기판의 거리를 조절하거나, 기판을 회전시키는 방법과 유량이나 반응기 내부 압력, 온도 등의 공정 조건을 변화시켜 최적화를 시도하고 있다1-3). 특히 8세대, 10세대 급의 LCD, 태양전지용 기판 등의 4m2 가 넘는 대면적 증 착/식각 균일도 향상을 위해서는 정확한 수치 모델의 개발이 큰 도움이 될 것이다. | |
반도체 웨이퍼에 증착 또는 식각되는 박막의 균일도에 영향을 미치는 요인은 어떤 것들이 있는가? | 공정 균일도에 큰 영향을 미치는 요인들은 반응 가스의 공급 균일도, 열화학 반응의 경우 기판 온도 균일도, 플라즈마 균일도, 가스 주입구와 배기구 사이의 기하적 관계, 반응 부산물의 표면 신속 배기 성능 등 상당히 많다. 이 모든 것을 실험으로 최 적화 하려면 최적 실험 계획법을 사용하더라고 많은 시간과 비용이 소요된다. |
D. I. Fortiadis, S. Kieda, K. F. Jensen, J. Crystal Growth, 102 (1990) 441
S. Patnaik, R. A. Brown, C. A. Wang, J. Crystal Growth, 96 (1989) 153
Y. J. Kim, J. H. Boo, B. Hong, Y. J. Kim, Surf. Coat. Technol., 193 (2005) 88
Advanced Energy, Litmas RPS Manual, 2006, Ch.2, pI.
S. Heil, F. Roozeboom, M. Sanden, W. Kessels, J. Vac. Sci. Technol., A 26 (2008) 472
S. Heil, C. Hodson, N. Singh, J. Klootwijk, F. Roozeboom, M. Sanden, W. Kessels, J. Vac. Sci. Technol., A 25 (2007) 1357
W. Kessels, F. Assche, J. Hong, D. Schram, M. Sanden, J. Vac. Sci. Technol., A 22 (2004) 96
S. Heil, E. Langereis, A. Kemmeren, F. Roozeboom, M. Sanden, W. Kessels, J. Vac. Sci. Technol., A23 (2005) L5
CFD Research, CFD-ACE Modules Manual V2008, 2, pp 133
문세연, 최원호, 새물리, 44(6) (2002) 312
해당 논문의 주제분야에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.