$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

마이크로웨이브 공진 공동을 이용한 플라즈마 원의 설계 및 특성
Design and Characterization of a Microwave Plasma Source Using a Rectangular Resonant Cavity 원문보기

韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society, v.17 no.5, 2008년, pp.408 - 418  

김현태 (서울대학교 원자핵공학과) ,  박용신 (서울대학교 원자핵공학과) ,  성충기 (서울대학교 원자핵공학과) ,  이재령 (서울대학교 원자핵공학과) ,  황용석 (서울대학교 원자핵공학과)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

본 논문에서는 집속이온빔의 플라즈마원을 위한 간단한 직육면체형태의 공진 공동을 설계하고 특성연구를 수행하였다. 공진에 최적인 공동 구조는 HFSS(High Frequency Structure Simulator)를 이용한 전기장 분포를 통해 구체적으로 계산하였다. 공진 공동은 내부 석영관 및 플라즈마 등의 유전체의 영향을 받기 때문에 공동의 한축 길이를 변화시킬 수 있는 구조로 설계되었다. 실험적으로 관찰되는 마이크로웨이브 방전시작전압을 통해 방전에 최적인 공동 길이를 측정하여 HFSS 계산된 값과 비교하였다. 공동은 석영관으로 인한 내부 유효유전율의 변화에 의해 석영관을 고려하지 않았던 길이에 비해 10cm가 감소된 길이에서 최적화됨을 공통적으로 확인할 수 있었다. 또한 압력변화에 따른 방전시작전압은 Paschen Curve와 유사한 결과를 나타내었다. 방전이 발생한 후에는 입력전력에 따라 플라즈마 밀도가 증가하였고 플라즈마의 영향으로 감소한 유효유전율에 의해 10cm가 증가한 길이에서 최적화가 되었다. 하지만 300W이상의 높은 입력 전력에서는 마이크로웨이브가 투과할 수 없는 고밀도 플라즈마 경계층(cut off layer)이 확장하여 더 이상 공동길이 조절을 통한 공동 최적화가 불가능함을 확인하였다. 따라서 고밀도 플라즈마를 만들기 위한 마이크로웨이브 공동의 정확한 설계를 위해 마이크로웨이브가 통과할 수 없는 고밀도 플라즈마 영역을 도체로 가정하고 그 외의 저밀도 플라즈마 영역을 밀도에 고유한 특정 유전율을 가지는 유전체로 설정하여 공동 내부의 전기장 분포를 해석하는 과정이 꼭 필요하다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The rectangular resonant cavity was designed and characterized as a microwave plasma source for focused ion beam. The optimum cavity was calculated analytically and analyzed in detail by using HFSS(High Frequency Structure Simulator). Since the resonant cavity can be affected by the permittivity of ...

주제어

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • 오늘날 대부분의 공진 공동은 내부 구성이 균질물질인 것을 가정하고 설계 제작되지만 본 논문의 실험결과를 통해 내부 구성물질들의 불균질성으로 인한 유효유전율의 변화가 마이크로웨이브 공진 공동에서 플라즈마의 방전과 유지에 상당한 영향을 미침을 확인하였다. 균질물질을 가정한 공동 설계는 내부 유전체의 존재로 인해 더 이상 최적 공진 구조가 아니지만 공동길이의 변화를 통해 석영관내부로 전기장을 다시 집중시킬 수 있음을 본 논문을 통해 논하였다. 하지만 고밀도 플라즈마 영역의 확장시에는 공진 조건이 파괴되고 플라즈마로의 직접적인 에너지 흡수가 지배적이 되므로 더 이상의 공동 최적화는 무의미하며 공동길이의 조절은 오로지 매칭의 문제에서만 고려할 대상으로 남는다고 할 것이다.
  • Yu A Lebedev의 논문은 공동의 한축의 길이 조절을 통해서 방전 후 플라즈마에 전달되는 마이크로웨이브 에너지의 효율을 높일 수 있다고 결론을 맺고 있지만 방전 발생전, 공동내부의 석영관에 전기장이 최대로 집중되기 위한 공동길이 최적화에 대한 구체적인 언급은 없었다. 본 논문에서는 Yu A Lebedev의 연구에 대한 보완으로써 방전을 위한 공동구조의 구체적인 최적화 조건을 설명하고, 추가적으로 마이크로웨이브가 투과할 수 없는 고밀도 플라즈마 영역의 확장으로 인해 300W이상의 입력 전력에서는 공동에서 공진의 발생 여부가 공동구조에 크게 영향을 받지 않게 됨을 통해 공동의 한축 길이 변화로써 마이크로웨이브 에너지 전달 효율을 높일 수 있다는 Lebedev의 결론이 수정되어야 함을 논하고자 한다.
  • 하지만 약 100W의 낮은 전력 인가시 공진 공동의 최적화에 따른 마이크로 웨이브 플라즈마의 밀도는 약 10배의 차이가 나는 것에 비해 입력전력이 300W로 증가하였을 때는 25%의 차이에 그치는 것을 확인함으로써 입력 전력 증가시 플라즈마 밀도의 공진 공동길이에 대한 경향성이 감소한다는 판단을 내릴 수 있었다. 본 논문에서는 실험을 통해 도출한 방전 전과 후 공동의 최적 길이와 입력 전력 증가시의 공동내 공진 파괴 현상에 대해 플라즈마의 발생을 결정짓는 직접적인 인자인 석영관 내의 전기장분포를 통해 설명하는 것을 최종목표로 한다.
  • 1)을 통해 계산한 공진 공동의 내부는 균질물질로 구성됨을 전제로 하기 때문에 내부 구성 물질들과 플라즈마의 발생여부로 인해 균질성이 깨어질 경우에는 공동의 유효유전율이 바뀌므로 공진에 적합한 공동의 구조 또한 변한다. 유효유전율을 고려한 공진 공동 길이의 최적화는 마이크로웨이브 플라즈마의 방전과 운전시에 에너지 전달효율을 결정짓는 중요한 문제이므로 방전시작전력과 플라즈마 밀도 측정 실험을 통해 방전시작 전과 후 각각에 최적화된 공진 공동의 길이를 찾고자 하였다. 하지만 약 100W의 낮은 전력 인가시 공진 공동의 최적화에 따른 마이크로 웨이브 플라즈마의 밀도는 약 10배의 차이가 나는 것에 비해 입력전력이 300W로 증가하였을 때는 25%의 차이에 그치는 것을 확인함으로써 입력 전력 증가시 플라즈마 밀도의 공진 공동길이에 대한 경향성이 감소한다는 판단을 내릴 수 있었다.

가설 설정

  • 식 (5.1)을 통해 도체로 가정한 고밀도 플라즈마의 전도성을 약 20 [siemens/m]로 지정하였고 안테나와 석영관을 연결하는 중심 축에 수직한 방향의 밀도분포는 중심축에서 최대가 되며 중심축을 기준으로 대칭성을 가지고, 석영관과 나란한 축은 모드를 0으로 지정하였으므로 균일한 밀도 분포를 가정하였다. 이러한 가정하에서 공동길이가 160mm인 공동에 100W의 마이크로웨이브를 인가하였을 때 형성되는 전기장 분포를 모사한 HFSS의 결과는 Figure 8과 같다.
  • 이 때 μr과 εr는 공동의 내부를 채우고 있는 물질에 따라 결정이 되는데 공동 내부를 균질한 물질로 가정한다.
  • 플라즈마의 밀도가 7.47 × 1016[m-3]인지점에서 마이크로웨이브는 더 이상 투과를 하지 못하고 반사가 이루어지고 플라즈마 내부에서의 전기장은 존재하지 않는다는 가정하에 경계층의 내부는 일정한 전도성을 가지는 도체로 설정을 하였는데 플라즈마의 전도성은 다음과 같다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
공동 전체의 유효유전율이 방전전과 다르다는 것은 무엇을 의미하는가? 방전이 발생한 후에는 석영관 내부의 플라즈마가 유전율을 가지기 때문에 공동 전체의 유효유전율은 방전전과 다르다. 플라즈마 발생으로 인한 유효유전율의 변화는 석영관에 전기장을 집중시키기에 최적인 공동길이가 바뀐다는 것을 의미한다. 방전 후에 최적인 공동길이를 찾아내는 것은 플라즈마의 밀도를 측정함으로써 가능하므로 Figure 1과 같이 석영관의 중심에 탐침을 위치시키고 공동길이를 변화시키며 밀도측정을 하였다.
마이크로웨이브를 이용한 플라즈마원은 어떤 장점이 있는가? 마이크로웨이브를 이용한 플라즈마원은 배경 기체의 과도한 가열이 없이 높은 이온화도의 플라즈마 발생이 가능하다. 또한 내부의 전극이 없이도 방전이 발생하기 때문에 전극으로부터의 오염에서 자유로운 단순한 형태의 설계가 가능하고, 전기적인 간섭에 의한 방해가 적다는 장점이 있다.[1] 이러한 장점들로 인해 오늘날 많은 플라즈마원에서 마이크로웨이브를 사용하고 있고 다양한 기술적인 방식으로 마이크로웨이브의 에너지를 플라즈마로 전달하는 플라즈마 원들이 계발되었다.
석영관 내부의 전기장이 플라즈마의 방전전압과 밀도에 직접적인 영향을 주는 이유는 무엇인가? 일반적으로 마이크로웨이브 플라즈마원은 효율적인 방전을 위해 인가하고자 하는 마이크로웨이브의 주파수에 고유한 공진 공동의 설계를 하고 전기장이 집중되는 지점에 석영관이 통과하도록 설계된다. 발생시키고자 하는 플라즈마의 종류에 해당하는 기체가 석영관을 따라 흐르면서 석영관에 집중되어 있는 전기장에 의해서 에너지를 얻어 방전이 시작되므로 석영관 내부의 전기장은 플라즈마의 방전전압과 밀도에 직접적인 영향을 준다.
질의응답 정보가 도움이 되었나요?

참고문헌 (12)

  1. F. C. Fehsenheld, K. M. Evenson, H. P. Broida, "Microwave Discharge Cavities Operating at 2450MHz", The Review of Scientific Instruments, Vol. 36, No. 3, March 1965 

  2. David M. Pozar, Microwave Engineering(John Wiley & Son, 2005) 

  3. Francis F. Chen, Introduction to Plasma Physics and Controlled Fusion(Plenum Press 1984) 

  4. Jerzy Krupka, Krzysztof Derzakowski, Michael Tobar, John Hartnett, Richard G Geyer, "Complex permittivity of some ultralow loss dielectric crystals at cryogenic temperatures", Meas. Sci. Technol, 10(1999), 387-392 

  5. C. R. Cockrell, "On the Causality of Plasma Permittivity", NASA Technical Memorandum 101551 

  6. 조정현,장봉철,박봉경,김윤환,정용호,김곤호,"운전 압력 변화에 따른 마이크로파 공기 플라즈마의 특성연 구" Journal of the Korean Vacuum Society, Vol. 11, No.1, 2002, pp.68-75 

  7. Yu A Lebedev, "Some properties of the tunable cavity microwave plasma source", Plasma Sources Sci. Technol. 4(1995) 474-481 

  8. C.C Motta, A.D. Fonseca, G.H. Gomes, and H. S. Maciel, "Complex Permittivity Measurement in Dielectric Waveguide Filled with Argon Plasma", IEEE, Vol. 1, 273-276pp, 2001 

  9. Michael A. Lieberman and Allan J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing(John Wiley & Son, 2005) 

  10. Huashun Zhang, Ion Sources(Springer, 1999) 

  11. 김곤호,양성채,플라즈마 일렉트로닉스(교학사, 2006) 

  12. Jes Asmussen, Jr. Raghuveer Mallavarpu, John R. Hamann and Hee Chung Park, "The Design of a Microwave Plasma Cavity", Proceedings of The IEEE, Vol. 62, No. 1, January 1974 

저자의 다른 논문 :

LOADING...

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

BRONZE

출판사/학술단체 등이 한시적으로 특별한 프로모션 또는 일정기간 경과 후 접근을 허용하여, 출판사/학술단체 등의 사이트에서 이용 가능한 논문

이 논문과 함께 이용한 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로