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[국내논문] 무전해 도금법을 이용한 코어 셸 구조의 Cu-Ag분말 제조
Preparation of Cu-Ag Powder having Core-Shell Structure by Electroless Plating Method 원문보기

한국표면공학회지 = Journal of the Korean institute of surface engineering, v.42 no.1, 2009년, pp.47 - 52  

김종완 (충남대학교 급속응고신소재연구소) ,  이혁희 (한국화학연구원) ,  원창환 (충남대학교 급속응고신소재연구소)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Cu-Ag powder having Core-Shell structure was prepared from by electroless plating method using agents such as $AgNO_3$, $NH_{4}OH$, Hydroquinone. Ag coated copper powders were analyzed using scanning electron microscopy(SEM) and energy dispersive X-ray spectrometer(EDX). The si...

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문제 정의

  • 따라서 본 논문에서는 무전해 도금법을 이용하여 5~40 µm 크기의 구리입자에 은을 코팅하여 각 공정 조건에 따른 최종생성물의 영향을 연구하고자 하였다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
전기 도금과 비교하여 무전해 도금이 가지는 장점은? 하지만 전기도금과 스퍼터링11) 등의 방법은 효율성면에서 낮기 때문에 산업화가 곤란한 경우가 많다. 이에 반해 무전해 도금은 전기 도금에 비하여 도금층이 치밀하고 균일한 두께를 가지며 free metal이 생성되지 않는 효율적인 코팅이 가능하고 도체뿐만 아니라 플라스틱이나 유기체와 같은 다양한 기판에 대해서도 적용할 수 있다. 또한 산업적인 측면에서도 제조비용이 낮고 대량생산이 가능하여 현재 많은 연구가 진행 중이다.
일반적인 분말 코팅방법은? 구리입자 표면에 은의 코팅은 구리의 산화를 억제시키며 구리와 은의 우수한 열적 전기적 특성을 모두 지닌 분말제조를 가능하게 할 뿐만 아니라은 분말의 고가격 문제 또한 해결할 수 있게 된다4-6). 일반적으로 분말 코팅방법은 전기 도금7), 무전해 도금8,9), 기상반응법10) 등이 있다. 하지만 전기도금과 스퍼터링11) 등의 방법은 효율성면에서 낮기 때문에 산업화가 곤란한 경우가 많다.
금과 은, 구리와 니켈의 단점은? 금, 은, 구리, 니켈 등은 전기적 열적 전도성이 뛰어난 금속 재료이다. 하지만 금과 은은 우수한 전 도적 특성을 지니고 있지만 가격이 비싸다는 단점이 있으며, 구리와 니켈역시 우수한 전기 전도적 특성을 지니고 있지만 산화에 약하다는 단점을 가지고 있다. 이러한 금과 은, 구리와 니켈의 단점을 극복하고자 코어-셸(Core-Shell)구조1-3)의 분말 제조에 관한 연구가 현재 전자산업에서 활발히 진행되고 있다.
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참고문헌 (11)

  1. Shaochun Tang, Yuefeng Tang, Shaopeng Zhu, Haiming Lu, and Xiangkang Meng, Journal of Solid State Chemistry 180 (2007) 2871 

  2. S. Prathap Chandran, J. Ghatak, and P. V. Satyam, Murali Sastry, Journal of Colloid and Interface Science, 312 (2007) 498 

  3. D. H. Chen and S. R. Wang, Materials Chemistry and Physics, 100 (2006) 468 

  4. D. Russev, D. Raclev, and S. Kava, J. Met. Finish, 81, (1983) 27 

  5. X. R. Xu, X. J. Luo, H. R. Zhuang, W. L. Li, and B. L. Zhang, Materials Letters, 57 (2003) 3987 

  6. H. T. Hai, J. G. Ahn, D. J. Kim, J. R. Lee, H. S. Chung, and C. O. Kim, Surface & Coatings Technology, 201 (2006) 3788 

  7. E. Takeshima, K. Takatsu, Y. Kojima, and T. Fujji, US Patent No. 4, 954 (1990) 235 

  8. S. Tojan Djokic, M. Dubois, and R. H. Lepard, US Patent No. 5, 945 (1999) 158 

  9. T. Hayashi, Shimonoseki, US Patent No. 5, 178 (1993) 909 

  10. D. M. Makowiecki, J. A. Kerns, C. S. Alford, and M. A. Mckernan, US Patent No: 6, 355 (2002) 146 B1 

  11. Z. Xu, X. Z. Yu, and Z. G. Shen, China Particuology, 5 (2007) 345 

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