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나노 복제 기술을 이용한 나노 패턴의 제작 및 응용 기술
Nano Replication Technology of Nano Patterns and Application Fields 원문보기

한국정밀공학회지 = Journal of the Korean Society for Precision Engineering, v.26 no.6 = no.219, 2009년, pp.30 - 35  

한정원 (연세대학교 기계공학과) ,  최준혁 (한국기계연구원 나노융합기계연구본부) ,  유영은 (한국기계연구원 나노융합기계연구본부) ,  김병희 (강원대학교 기계메카트로닉스공학과) ,  이재숙 (제이엠아이주식회사 연구소) ,  강신일 (연세대학교 기계공학과)

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문제 정의

  • 대하여 소개하고자 한다. 마지막으로 나노 복제공정기술을 응용하여 제작 가능한 자기 정보저장 매체, 광정보저장매체, 광학표면 등의 응용 예 또한 소개하고자 한다.
  • 본 논문에서는 나노 패턴의 복제 성형 공정기술에 사용될 나노 몰드 제작 기술과 나노 몰드의 이형 특성 향상기술 및 다양한 나노 복제 공정기술들에 대하여 소개하고자 한다. 마지막으로 나노 복제공정기술을 응용하여 제작 가능한 자기 정보저장 매체, 광정보저장매체, 광학표면 등의 응용 예 또한 소개하고자 한다.
  • 본 논문에서는 짧은 공정 사이클 타임과 낮은 제작단가 등의 장점으로 나노 패턴의 대량 생산에 적합한 나노 복제 공정기술 및 이에 필요한 관련 요소기술과 나노 패턴의 응용분야에 대하여 소개하였다.
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참고문헌 (13)

  1. Han, J., Yang, J., Shin, S., Kim, Y. and Kang, S., "Design and Fabrication of Perpendicular Patterned Magnetic Media Using Nanoimprinted Nano Pillar Patterns," IEEE Transactions on Magnetics, Vol. 45, No. 5, pp. 2288-2291, 2009 

  2. Lee, N., Han, J., Lim, J., Choi, M., Han, Y., Hong, J. and Kang, S., "Injection Molding of Nanopillars for Perpendicular Patterned Magnetic Media with Metallic Nanostamp," Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 47, No. 3, pp. 1803-1805, 2008 

  3. Lee, H., Han, J., Min, B. and Lee, S., "Simulation of Focused Ion Beam Processes for Micro-Nano Machining," Journal of the Korean Society for Precision Engineering, Vol. 25, No. 3, pp. 44-49, 2008 

  4. Shin, H., Kwon, J., Seo, Y. and Kim, B., "Fabrication of Polymer Master for Antireflective Surface Using Hot Embossing and AAO Process," International Journal of Modern Physics B, Vol. 22, No. 31-32, pp. 5887-5894, 2008 

  5. Koo, N., Plachetka, U., Otto, M., Bolten, J., Jeong, J., Lee, E. and Kurz, H., "The Fabrication of a Flexible Mold for High Resolution Soft Ultraviolet Nanoimprint Lithography," Nanotechnology, Vol. 19, No. 22, p. 225304, 2008 

  6. Kim, H., Shin, S., Han, J., Han, J. and Kang, S., "Fabrication of Metallic Nano Stamp to Replicate Patterned Substrate using Electron-Beam Recording,Nanoimprinting and Electroforming," IEEE Transactions on Magnetics, Vol. 45, No. 5, pp. 2304-2307, 2009 

  7. Lee, N., Choi, S. and Kang, S., "Self-assembled Monolyaer as an Antiadhesion Layer on a Nickel Nanostamper in the Nanoreplication Preocess for Optoelectronic Applications," Applied Physics Letters, Vol. 88, p. 073101, 2006 

  8. Lee, D., kim, K., Jeong, J., Lee, E. and Choi, D., "The Surface Treatment Effect for Nanoimprint Lithography using Vapor Deposition of Silane Coupling Agent," Korean Chemical Engineering Research, Vol. 45, No. 2, pp. 149-154, 2007 

  9. Choi, J., Lee, S., Choi, D., Kim, K., Jeong, J. and Lee, E., "Direct UV-imprint Lithography using Conductive Nanofiller-dispersed UV-curable Resin," Journal of Vacuum Science and Technology B, Vol. 26, No. 4, pp. 1390-1394, 2008 

  10. Lim, J., Popall, M. and Kang, S., "Application of Organic/inorganic Hybrid Photopolymer to Fabricate Ultra-high-Density Patterned Substrate," IEEETransactions on Magnetics, Vol. 45, No. 5, pp. 2300-2303, 2009 

  11. Kim, Y., Choi, Y. and Kang, S., "Replication of High Density Optical Disc Using Injection Mold with MEMS Heater," Microsystem Technologies, Vol. 11, No. 7, pp. 464-469, 2005 

  12. Jeong Moon Information. Co., Ltd, http://www.jmikorea.co.kr 

  13. Hoshino, T., Itoh M. and Yatagai, T., "AntireflectiveGrating in the Resonance Domain for Display,"Applied Optics, Vol. 46, No. 5, pp. 648-656, 2007 

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